판매용 중고 PVA TEPLA / TECHNICS 300-E #9049959

ID: 9049959
Plasma cleaning unit Applications: Photoresist stripping Mask etching Surface cleaning Etching of class and ceramics Etching of SiO2 Si3N4 Si Removal of Polyimid and Passivation layer process chamber Quartz with Kapton cover (3) Separate gas channels Maximum rate per channel: 500 sccm Working pressure: 0.5-1.5 mbar 250 V, 15 A.
PVA TEPLA/TECHNICS 300-E는 다양한 표면 마무리 작업에 사용되는 에처/애셔입니다. 이 에처/애셔에는 다양한 기능과 응용 프로그램이 있습니다. TECHNICS 300-E는 저항성 난방 프로세스를 사용하여 표면을 빠르게 에치 및 애셔 처리합니다. 최대 250 ° C의 온도 범위, 최대 ± 1 ° C의 온도 조절 범위, 최대 30 sec의 시간 제어 범위에 부품을 적용 할 수 있습니다. 온도 조절 정확도는 ± 2 ° C이며 0.1 ° C의 증가로 조절 할 수 있습니다. 이 etcher/asher는 단일 영역 열 처리를 위해 설계되었으며 수직 (vertical) 모드와 수평 (horizontal) 모드 모두에서 작동 할 수 있습니다. 또한 진공 탱크 설계 (vacuum tank design) 를 통해 보다 정확하고 일관된 결과를 얻을 수있는 정확한 프로세스 반복성을 제공합니다. 이 에처/애셔 (etcher/asher) 에는 긴급 정지 스위치와 함께 IC 온도 컨트롤러 및 지상 결함 장치로 구성된 자동 안전 시스템이 장착되어 있습니다. 내장형 냉각 시스템은 운영 온도 제한을 초과하지 않도록 합니다 (예: 샘플 보호). PVA TEPLA 300E는 단일 웨이퍼, 배치 및 반 배치와 같은 다양한 에칭 및 애싱 구성을 제공합니다. 시료의 균일 한 가열을위한 SiC 가열 요소가있는 200mm (너비) x 300mm (길이) x 250mm (깊이) 의 공정 챔버 크기가 있습니다. 14 인치 웨이퍼 프로세싱도 가능합니다. 전반적으로 300-E는 효율적이고 정확한 표면 마무리 작업을 위해 설계된 에처/애셔입니다. 프로세스 챔버 크기, 온도 조절, 조정 가능한 시간 제어, 비상 정지 스위치, IC 온도 제어 등 다양한 기능이 장착되어 있습니다. 또한 운영자의 구체적인 요구를 충족하는 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 구성도 포함됩니다.
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