판매용 중고 PVA 1000 #293804896

PVA 1000 (PVA 1000) 은 다양한 산업 및 연구 응용에서 광범위한 재료의 정확하고 통제 된 플라즈마 처리를 위해 설계된 다재다능한 에처/애셔 (etcher/asher) 장비입니다. 오늘날 반도체, 마이크로 일렉트로닉스, 광학, 생명 공학 산업의 까다로운 요구 사항을 충족하는 고급 기능과 기능을 제공합니다 (영문). 1000 시스템의 중심에는 이온 (ion), 라디칼 (radical) 및 기타 종으로 구성된 반응성이 높은 플라즈마를 생성하는 고성능 플라즈마 소스 (plasma source) 가 있으며, 이는 재료의 표면 특성을 수정하는 데 사용됩니다. 이 "플라즈마 '는 산소, 질소," 아르곤', 수소 및 기타 반응성 있는 "가스 '를 포함 한 여러 가지" 가스' 화학 물질 에서 작용 하여 "플라즈마 '처리 를 특정 한 물질적 특성 및 공정 요구 조건 에 따라 조정 할 수 있다. PVA 1000 장치는 스테인리스 스틸 (stainless steel) 이나 알루미늄 (aluminum) 과 같은 고품질 재료로 만들어진 견고한 진공실을 갖추고 있어 깨끗하고 오염이 없는 처리 환경을 보장합니다. 챔버에는 가스 입구, 진공 펌프 (vacuum pumping) 및 샘플 로딩을위한 여러 포트가 장착되어 있으며, 플라즈마 공정의 실시간 모니터링을 위해 창을 볼 수 있습니다. 1000 기계의 핵심 구성 요소 중 하나는 RF (radiofrequency) 전원 공급 장치이며, 이는 플라즈마 소스에서 플라즈마 방전을 생성하고 제어하는 데 사용됩니다. RF 전원 공급 장치 (RF Power Supply) 는 안정적이고 안정적인 전원 공급을 제공하여 운영 기간 동안 플라즈마 프로세스를 유지하여 일관되고 재현이 가능한 결과를 제공합니다. 또한 PVA 1000 툴은 가스흐름 속도, 작동 압력, RF 전원 수준, 처리 시간 등 주요 프로세스 매개변수를 정확하게 조정하고 모니터링할 수 있는 고급 프로세스 제어 (process control) 자산을 제공합니다. 이를 통해 플라즈마 처리 프로세스를 세밀하게 조정하여 서피스 클리닝, 에칭, 활성화, 기능화 등 원하는 재료 수정 효과를 달성할 수 있습니다. 또한 1000 개 모델은 정확한 프로세스 제어 (process control) 기능과 더불어 다양한 사용자 친화적 기능을 제공하여 운영 및 유지 보수 편의성을 향상시킵니다. 여기에는 장비 제어 및 데이터 로깅을 위한 직관적인 터치스크린 인터페이스, 일상적인 절차를 쉽게 설정 및 실행할 수 있는 자동화된 프로세스 레시피, 운영자 및 장비 보호를 위한 안전 연결 (Safety Interlock) 및 경고, 문제 해결 및 지원을 위한 원격 모니터링 및 진단 등이 포함됩니다. PVA 1000 시스템은 다용도가 높으며, 소형 웨이퍼 기판에서 대형 평면 패널 또는 3D 구성 요소에 이르기까지 다양한 샘플 크기와 모양을 수용 할 수 있습니다. 여러 샘플의 배치 처리 (batch processing) 를 동시에 수행하거나 처리량 및 효율성이 높은 단일 샘플 (single-sample) 처리에 적합합니다. 전반적으로 1000 개의 etcher/asher 장치는 고급 플라즈마 처리 어플리케이션을 위한 최첨단 플랫폼으로, 광범위한 자재 및 산업에 대한 정확성, 안정성, 다재다능성을 제공합니다. 고급 기능과 사용자 친화적 인 설계를 갖춘 PVA 1000 머신은 제어 된 표면 수정 및 처리가 필요한 연구 개발, 품질 관리 (Quality Control) 및 생산 프로세스에 유용한 도구입니다.