판매용 중고 PSK Supra III #293705871

PSK Supra III는 반도체 처리 응용 분야에 이상적인 고속 정밀 에처/애셔입니다. 이 장치는 매우 정밀하고 고출력 플라즈마 소스 (Plasma Source) 를 특징으로하며, 저온에서 작동하므로 다양한 프로토 타이핑 및 생산 규모 운영에 이상적입니다. 하이엔드 HF 및 DC 전원 공급 장치는 에칭 (etching) 매개변수를 개별 애플리케이션 요구에 맞게 완벽하게 조정하는 데 필요한 유연성을 제공합니다. 이 장치에는 또한 고유한 프로그래밍 가능한 제어 장비 (programmable control equips) 가 제공되며, 이를 통해 사용자는 특정 처리 조건에 따라 에칭 프로세스를 조정할 수 있으며, 반복 가능하고 예측 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 사용하기 쉬운 다양한 소프트웨어 패키지가 제공되는 이 시스템은 플라즈마 밀도 (plasma density), 기판 바이어스 전압 (substrate bias voltage), 가스 제어 (gas control) 및 기타 중요한 매개변수를 수정할 수 있는 기능을 제공합니다. 수프라 III (Supra III) 를 사용하면 에칭 프로세스에 대한 그래픽 및 데이터 보고를 쉽게 이해할 수 있으며, 이를 통해 사용자에게 즉각적인 시각적 피드백을 제공합니다. PSK 수프라 III (PSK Supra III) 의 고급 회전 가능한 챔버 (Rotatable Chamber) 는 각 웨이퍼 처리의 탁월한 균일성을 제공하며, 존재하는 위험한 가스의 양을 줄입니다. 공정 결과 (process result) 가 가능한 한 일관되게 유지되도록 기계에서 원치 않는 침전물과 가스를 제거하기 위해 내장 진공 장치 (Bist-in vacuum unit) 가 제공됩니다. 이 도구에는 사용 중 발생 가능한 오류를 연산자에게 경고하는 직관적인 경보 에셋 (alarm asset) 도 있습니다. 이 장치는 안정성, 정확성, 일관된 결과를 보장하기 위해 엄격한 사양을 충족하도록 설계되었습니다. 모델의 설계를 통해 구성 요소 품질이 가장 높아 수명을 연장하고, 성능 변동을 최소화할 수 있습니다 (영문). 또한 통합 지원 및 안전을위한 스마트 자체 진단 장비도 포함되어 있습니다. 또한, Supra III는 사용하기 쉽고 유지 관리하기 쉬운 인체 공학적, 사용자 친화적 인 디자인입니다. 다양한 툴과 설치 가이드 (Setup Guide) 가 제공되며, 사용자는 시스템을 가동하고 실행할 수 있습니다. 이로 인해 PSK Supra III는 다양한 반도체 처리 응용 분야에 대해 매우 많이 찾는 선택입니다.