판매용 중고 PSC DES-220-459-AVL #293829995

PSC DES-220-459-AVL은 반도체 처리 응용 분야를 위해 설계된 특수 etcher/asher 장비입니다. 이 첨단 장비 는 높은 정밀도 와 "컨트롤 '을 가진 기판 의 표면 에서 재료 를 선택적 으로 제거 하여 집적" 회로' 및 기타 "마이크로 '전자 장치 의 제조 에 사용 된다. DES-220-459-AVL 은 단일 플랫폼에서 에칭 (etching) 기능과 애싱 (ashing) 기능을 모두 결합한 독보적인 설계로, 제조 프로세스의 유연성과 효율성이 향상되었습니다. 이 시스템은 다양한 첨단 기술 (Advanced Technologies) 과 기능을 갖추고 있어 클린 룸 (Clearroom) 환경에서 성능과 안정성을 향상시킵니다. PSC DES-220-459-AVL (PSC DES-220-459-AVL) 의 주요 구성 요소 중 하나는 공정 챔버 (process chamber) 로, 에칭 및 애싱 프로세스에 대한 제어 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 반도체 처리에 사용되는 거친 화학 물질과 고온에 강한 고품질 물질로 구성됩니다. 운영자 (Operator) 와 환경 보호를 위해 다양한 안전 (Safety) 기능을 갖추고 있습니다. DES-220-459-AVL의 에칭 공정은 플라즈마와 반응성 가스 화학 물질의 조합을 사용하여 달성된다. 플라즈마 에칭 (Plasma etching) 은 일련의 화학 반응을 통해 기질 표면에서 물질을 제거하는 매우 선택적이고 효율적인 과정입니다. 이 장치에는 다양한 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 과 RF 전원 공급 장치 (etching parameter) 가 장착되어 있어 에칭 매개변수를 정확하게 제어할 수 있습니다. PSC DES-220-459-AVL의 애셔 공정 (asher process) 은 기질 표면에서 포토 esist 및 기타 유기 잔기를 제거하는 데 사용된다. 애싱 (Ashing) 은 후속 처리 단계를 위해 기판을 준비하기 위해 반도체 제조 공정에서 중요한 단계입니다. 이 기계에는 전용 애싱 챔버 (ashing chamber) 및 가스 흐름 제어 도구 (gas flow control tool) 가 장착되어 일관되고 균일 한 애싱 결과를 보장합니다. 또한 DES-220-459-AVL에는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 시스템이 장착되어 있어 가스 흐름 속도, 챔버 압력, 온도 등 프로세스 매개 변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이러한 시스템은 운영자에게 프로세스 조건을 최적화하여 효율성과 반복 (repeatability) 을 극대화할 수 있는 기능을 제공합니다. PSC DES-220-459-AVL은 고급 프로세스 기능 외에도, 사용자 친화적인 인터페이스 및 소프트웨어 제어 자산을 제공하여 운영 및 유지 관리를 단순화합니다. 이 모델에는 운영자와 장비를 위험으로부터 보호하기 위해 다양한 안전 기능 (Safety Features) 과 인터 록 (Interlock) 이 장착되어 있습니다. 전반적으로 DES-220-459-AVL은 반도체 처리 응용 프로그램을 위해 고성능, 정밀성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 고급 기능 (Advanced Features) 과 기능을 통해 반도체 제작 프로세스에서 고품질 (High Quality) 결과를 얻고자 하는 제조업체에게는 이상적인 선택입니다.