판매용 중고 PLASMATHERM VLR #9225837

PLASMATHERM VLR (PLASMATHERM VLR) 은 복잡한 3D 패턴을 에칭 할 수있는 높은 정확도의 마이크로 머시닝을 위해 설계된 고급 건식 에칭 장비입니다. 이 시스템은 산업 표준 RIE (Reactive Ion Etching) 기술을 기반으로하며, 고전압 플라즈마를 사용하여 기판에서 대상 재료를 제어 된 방식으로 제거합니다. 높은 스펙트럼 밝기 (Spectral Brightness) 와 높은 전력 밀도를 결합하여 매우 높은 정확도 및 반복성으로 초고속 에치 속도를 달성합니다. VLR은 매우 높은 주파수 RF (Radio Frequency) 생성기, 장치 제어 소프트웨어 및 2 개의 개별 평면 플라즈마 소스가있는 진공 챔버로 구성됩니다. RF 생성기에 연결된 이러한 평면 플라즈마 소스 (planar plasma source) 는 동종 플라즈마 생성을 제공하여 다중 피쳐가 있는 부품의 높은 정확도를 보장합니다. PLASMATHERM VLR (PLASMATHERM VLR) 은 많은 고 종횡비 구조를 포함하여 광범위한 물질에서 진공 및 반응성 가스 화학에 맞게 조정되었습니다. 산화물 (oxide) 및 비 산화물 에칭 (non-oxide etching) 을 모두 지원하도록 설계되었으며, 다중 평면 챔버에서 조절 가능한 바이어스 전압을 특징으로하며 다른 재료에 대해 높은 선택성을 달성 할 수 있습니다. 이 에치 머신은 또한 어닐링, 수동화 및 증착 과정을 수행 할 수 있습니다. 이 도구는 다양한 전원 밀도를 지원하므로 다양한 형상에 대한 최적의 에칭 (etching) 매개변수를 제공합니다. 실시간 모니터링을 통해 프로세스 매개변수 에칭을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 레시피 개발을 위해 사용자에게 친숙한 인터페이스를 제공합니다. "VLR '은 작은 면적 으로 설계 되었으며, 부식성 이 없는 물질 을 사용 하여, 청소 를 포함 한 거의 모든 실험실 환경 에 쉽게 적응 할 수 있다. 또한 완전히 자체 포함되어 있으므로 설치 및 일상적인 유지 보수가 용이합니다. 전반적으로, PLASMATHERM VLR은 지속적으로 높은 정확도와 속도를 요구하는 어플리케이션에 적합한 선택입니다. 고유한 기능의 조합을 통해 소액머시닝 (micro-machining) 을 요구하는 프로젝트를 빠르고 정확하게 선택할 수 있으며, 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다.