판매용 중고 PLASMATHERM Versaline #293592006

PLASMATHERM Versaline
ID: 293592006
웨이퍼 크기: 6"
ICP-RIE System, 6" PSS ICP: 4" x 4".
PLASMATHERM Versaline etcher/asher는 반도체 제조 응용 프로그램에서 탁월한 성능을 발휘하도록 설계된 최첨단 에칭 및 애싱 장비입니다. 이 시스템은 다양한 기판 및 프로세스에 대한 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 솔루션을 갖추고 있습니다. Versaline은 매우 유연한 프로세스 챔버와 다양한 구성을 갖추고 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 프로세스 환경을 정확하게 제어하기 위해 독립적 인 가스 흡입구와 배기를 가지고 있습니다. 챔버의 레이아웃에는 등방성 애싱 존 (ashing zone) 과 방향성 에칭 존 (etching zone) 이 2 구역 가용성이 있습니다. 이를 통해 여러 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있도록 장치를 확장할 수 있습니다. PLASMATHERM Versaline은 정확한 플럭스 제어와 높은 균일성을 제공하는 고급 마그네트론 스퍼터링 소스를 사용합니다. 그것 은 또한 고효율 의 진공 환경 을 가지고 있으며, 정결 한 상태 를 유지 하고, 공정 에 영향 을 줄 수 있는 오염 물질 의 양 을 감소 시킬 수 있는 "펄스 머신 '이 설치 되어 있다. 챔버 내부의 비활성 대기는 최고 품질의 결과를 보장합니다. 또한, Versaline에는 로드 잠금 (load-lock) 도구가 내장되어 있어 에치 분위기를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 자산은 또한 컴퓨터 제어 가스 퍼지 모듈을 특징으로하여 정밀한 가스 제어를 허용합니다. PLASMATHERM Versaline (PLASMATHERM Versaline) 은 또한 정확한 온도 제어를 특징으로하며, 특정 기판 및 프로세스에 대한 최적의 프로세스 온도를 선택할 수 있습니다. Versaline 은 정밀하고 안정적인 운영, 낮은 유지 관리 요구 사항, 뛰어난 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 또한, 이 모델은 고급 모니터링 (advanced monitoring) 및 진단 (diagnostic) 기능을 제공하여 사용자에게 프로세스를 효과적으로 최적화하는 데 필요한 정보를 제공합니다. 전반적으로 PLASMATHERM Versaline etcher/asher는 고급적이고 효율적이며 사용하기 쉬운 장비로, 정확한 에칭 및 애싱 솔루션을 제공합니다. 이 제품은 모든 반도체 제조 (fabrication) 애플리케이션에 이상적인 시스템으로, 사용자가 최상의 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. 안정성, 성능, 유지 관리 요구 사항이 낮고 프로세스 결과가 우수하도록 설계되었습니다.
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