판매용 중고 PLASMATHERM / UNAXIS VLR 700 #9384115

PLASMATHERM/UNAXIS VLR 700은 고급 반도체 제작 응용 프로그램에 적합한 최첨단 에처/애셔입니다. 이 장비는 다양한 유형의 재료 표면에 대한 에칭 및 애싱 공정을 모두 수행 할 수있는 하이브리드 플라즈마/진공 에처/애셔 (hybrid plasma/vacuum etcher/asher) 입니다. 3 개의 상호 연결된 주 컴포넌트로 구성된 모듈식 시스템 (Modular System) 으로, 기판을 처리 할 때 최상의 정확성과 유연성을 제공합니다. RF 생성기는 UNAXIS VLR 700의 주요 구성 요소 중 하나이며, 에칭 프로세스와 애싱 프로세스를 모두 지원합니다. 주파수 범위 (20 kHz ~ 13.56 MHz) 로 최대 1000 와트의 전력 수준에 도달할 수 있으며 고밀도 플라즈마 균일성, 반복성, 탁월한 프로세스 제어를 지원합니다. 이를 통해 정확한 처리를 용이하게 하고, 생산량을 향상시키고, TCO (소유 비용) 를 절감할 수 있습니다. PLASMATHERM VLR 700의 프로세스 챔버 (Process Chamber) 는이 장치의 중심이며 저압, 균일 한 플라즈마 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 설치 및 유지 보수가 용이하지만 이동식 (Removable) 리플로워블 (Reflowable) 기능과 다양한 액세스 포트가 있어 기판 로딩, 언로드, 유지 보수가 용이합니다. 이 공정 챔버 (process chamber) 는 효율적인 건강 모니터링 기계를 갖추고 있으며, 고급 반도체 제작을 위해 에칭 (etching), 청소 (cleaning) 및 얇은 필름 및 나노 구조 구축과 같은 프로세스에 적합합니다. 마지막으로, Controller는 VLR 700의 제어 허브로, 사용자가 에칭/어싱 프로세스를 효율적으로 모니터링, 유지 관리 및 제어할 수 있도록 합니다. 150 개 이상의 다른 매개변수를 조작할 수 있으며 업계 표준 인터페이스 (industry standard interface) 를 사용하여 외부 시스템과 쉽게 통합됩니다. 컨트롤러에는 고급 진단 (Advanced Diagnostic) 기능이 포함되어 있어 다양한 프로세스 조건과 프로세스 레시피에 적합합니다. PLASMATHERM/UNAXIS VLR 700은 MEMS, thin film etching, nanofabrication 및 advanced 패키징과 같은 반도체 제작 응용 프로그램에 이상적인 종합적인 통합 etcher/asher 도구를 제공합니다. 에칭 (etching) 기능과 애싱 (ashing) 기능, 라인의 최상위 기능, 뛰어난 프로세스 제어 기능을 모두 통해 제조업체는 높은 품질과 신뢰성 있는 구성요소를 효율적으로 생산할 수 있으며, 탁월한 수익률과 투자 수익률을 제공합니다.