판매용 중고 PLASMATHERM / UNAXIS Versalock 700 #9311007
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ID: 9311007
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 2000
PECVD System, 4"
(2) Process chamber
Load lock
Wafer handler
PM1:
For HDCVD
Gases: SiH4, N2, NH3, N2, O2, Ar, SF6
Wafer type: Mechanically clamped wafers
PM2:
For PECVD
Gases: SiH4, N2O, NH3, N2, CH4, He, SF6
Wafer type: Electrostatic chuck
Removed parts:
PM1:
Roots blower package
Gas box exhaust switch
NESLAB Chiller
Vacuum tees
He MFC for wafer backside
ENI (Bias) RF Generator
ICP RF Match network
RF Cables
Match position controllers
PM2:
Roots blower package
Air regulator assembly
Gas box exhaust switch
NESLAB Chiller
PM7 Controller
RF5S RF Generator
Waterflow sensor
RF Feedthrough
N2O MFC (PM2)
RF Cables
Match position controllers
Missing parts:
Capacitor housing for ICP
BROOKS AUTOMATION Robot for wafer handler
2000 vintage.
PLASMATHERM/UNAXIS Versalock 700은 정밀도 및 고속 에칭 어플리케이션을 위해 설계된 에처 및 애셔입니다. 사용자에게 뛰어난 품질, 정확성 및 반복 성을 제공하도록 설계되었습니다. UNAXIS Versalock 700은 공정 가속을 위해 최대 28nm/min.의 속도로 빠른 에치 속도를 허용하는 산업 등급 에처 (etcher) 및 애셔 (asher) 장비입니다. PLASMATHERM VERSA LOCK 700은 자동화, 모듈식, 구성 가능한 시스템으로, 유연성과 성능을 위해 여러 개의 영역을 갖추고 있습니다. 정밀 진공 및 가스 시퀀싱, 열 제어, 프로세스 프로파일 최적화 (process profile optimization) 를 통해 탁월한 정확성과 반복성을 제공하도록 설계되었습니다. PLASMATHERM/UNAXIS VERSA LOCK 700은 탁월한 정렬 및 반복성을 위한 초고해상도 이미징 및 포지셔닝 기능과 탁월한 선택성 및 etch 속도를 위한 고해상도 al ./Cu 에칭 프로세스를 갖추고 있습니다. 또한 닫힌 루프 모니터링 및 프로세스 최적화를 위해 고급 적외선 CCD 카메라 유닛과 고성능 에칭, 클리닝, photomask 인식 및 O2 etch를위한 여러 공구 영역이 장착되어 있습니다. PLASMATHERM Versalock 700 (Versalock 700) 은 또한 효율적인 인체 공학적 설계를 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자 효율성을 높이고 제품을 분류할 수 있습니다. 이 제품은 포괄적인 모니터링 기능과 문제 해결 툴을 통해 기존 시스템에 완벽하게 통합할 수 있도록 설계되었습니다. 온도 조절 석영 챔버 (quartz chamber) 로 제작되어 공정 온도를 정확하게 제어 할 수 있습니다. Versalock 700에는 가변 압력 소스 (variable pressure source) 가 포함되어 있어 다양한 어셈블리에서 결과를 보다 효과적으로 제어하고 재현할 수 있습니다. 전반적으로 UNAXIS VERSA LOCK 700은 정확성, 반복성, 뛰어난 품질의 성능을 위해 설계된 고성능 etcher 및 asher 머신입니다. 가장 까다로운 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 어플리케이션을 충족할 수 있도록 설계된 수많은 기능이 장착되어 있으며, 구성성이 뛰어나고 모듈형이며, 탁월한 정확성과 생산성을 제공합니다.
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