판매용 중고 PLASMATHERM / UNAXIS SLR Series #293807239

PLASMATHERM/UNAXIS SLR 시리즈는 반도체 제조 및 연구 애플리케이션의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 특별히 설계된 고급 etcher/asher 시스템 제품군입니다. 이러한 고성능 시스템은 최첨단 기술과 혁신적인 설계 요소로, 다양한 기판 및 프로세스에 걸쳐 탁월한 프로세스 제어, 높은 반복성, 탁월한 에칭/애싱 균일성을 제공합니다. UNAXIS SLR 시리즈 (UNAXIS SLR Series) 는 다양한 모델로 구성되어 있으며, 각 모델은 특정 프로세스 요구를 충족하고 다양한 웨이퍼 크기와 운영 볼륨을 수용할 수 있도록 맞춤형으로 구성되어 있습니다. 이러한 시스템에는 최첨단 플라즈마 소스, 고급 가스 전달 시스템, 정확한 온도 조절, 다양한 드라이 에칭 (dry etching) 및 플라즈마 애싱 (ashing) 어플리케이션이 가능한 유연한 프로세스 기능이 장착되어 있습니다. PLASMATHERM SLR 시리즈의 핵심에는 균일 한 플라즈마 분포 및 효율적인 가스 표면 상호 작용을 제공하도록 설계된 매우 다양한 진공 챔버 (vacuum chamber) 가 있습니다. 이 챔버는 뛰어난 공정 안정성, 낮은 입자 생성, 장기적인 신뢰성을 보장하기 위해 고품질 재료로 제작되었습니다. 이 "펌프 '는 급속 한" 펌프' 다운 을 이루고 공정 전체 의 진공 상태 를 유지 할 수 있는 고급 "펌프 '장치 를 갖추고 있다. SLR 시리즈에 사용되는 플라즈마 소스는 RF (advanced radiofrequency) 및 마이크로파 기술을 기반으로하며, 밀도, 균일 성 및 이온 에너지와 같은 플라즈마 매개변수를 정확하게 제어합니다. 이 소스는 다양한 플라즈마 화학 물질을 생성 할 수 있으며, 실리콘, 이산화규소, 금속, 중합체 등을 포함한 다양한 물질의 에칭/애싱을 가능하게합니다. 이 시스템은 또한 고급 임피던스 매칭 네트워크 (impedance matching network) 를 통해 플라즈마 전력 전송 효율성을 극대화하고 안정적인 플라즈마 생성을 보장합니다. PLASMATHERM/UNAXIS SLR 시리즈 (PLASMATHERM/UNAXIS SLR Series) 의 가스 전달 시스템은 원하는 에치/애쉬 속도 및 선택성을 달성하기 위해 프로세스 가스 및 유속을 정확하게 제어하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 산소, 아르곤, 6 불화 황, 염소와 같은 반도체 처리에 일반적으로 사용되는 표준 가스 화학 물질과 특정 응용에 맞춘 맞춤형 가스 혼합물을 모두 지원합니다. 가스 전달 시스템 (Gas Delivery System) 에는 질량 흐름 컨트롤러, 압력 조절기 및 흐름 모니터링 장치가 장착되어 있어 정확하고 반복 가능한 프로세스 조건을 보장합니다. 온도 조절은 에칭/애싱 프로세스의 중요한 측면이며, UNAXIS SLR 시리즈 (UNAXIS SLR Series) 는 고급 온도 제어 시스템을 통합하여 웨이퍼 표면에 걸쳐 엄격한 온도 균일성을 제공합니다. 이 시스템에는 통합 온도 모니터링 센서, 난방 요소, 냉각 장치 (cooling mechanism) 가 포함되어 있어 프로세스 전반에 걸쳐 원하는 온도에서 웨이퍼를 유지합니다. 이 정확한 온도 제어는 프로세스 변화를 최소화하고 웨이퍼 (wafer) 에서 웨이퍼 (wafer) 까지 일관된 etch/ash 결과를 보장하는 데 도움이됩니다. PLASMATHERM SLR 시리즈는 또한 실시간 플라즈마 진단, 엔드포인트 감지 알고리즘, 레시피 관리 소프트웨어, 고급 데이터 로깅 기능 등 다양한 고급 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 이러한 기능을 통해 사용자는 프로세스 매개변수를 최적화하고, 프로세스 성능을 실시간으로 모니터링하며, 높은 프로세스 반복성, 생산성을 얻을 수 있습니다. 이 시스템은 또한 사용자 친화적 인 인터페이스 패널과 직관적인 소프트웨어 (software) 를 갖추고 있어 운영 및 유지 보수가 용이합니다. 전반적으로 SLR 시리즈는 반도체 업계의 고급 에칭 및 플라즈마 애싱 (plasma ashing) 애플리케이션을 위한 최첨단 솔루션입니다. 최첨단 기술, 유연한 프로세스 기능, 탁월한 성능 등, 이러한 시스템은 광범위한 연구/운영 환경에 적합합니다. 즉, 정밀도, 안정성, 프로세스 제어가 가장 중요합니다.