판매용 중고 PLASMATHERM / UNAXIS SLR 720 #9270614

PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720은 광범위한 플라즈마 기반 웨이퍼 처리 어플리케이션을 위해 설계된 업계 최고의 고급 에칭 및 애싱 장비입니다. 이 기능은 R & D와 생산 용도 모두에 적합합니다. UNAXIS SLR 720의 직경은 11 "(270mm) 이며 전체 크기 300mm 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 구조는 초고압 및 저압 플라즈마 존 (plasma zone) 으로 구성되며, 고립되고 독립적이므로 프로세스 유연성이 높아집니다. 이 시스템에는 최저의 온도에서 에치 (etch) 와 재 균일 (ash unifority) 을 보장하는 전장 기판 가열 장치가 포함되어 있습니다. 챔버에는 프로세스 완료를 이해하기 위해 EPD (End-Point Detection) 장치가 장착되어 있습니다. 기계의 고압 구역에는 최대 1000W에 이르는 전력 수준이 있습니다. AFT (Auto Frequency Tuning) 를 통한 디지털 부동 전력 제어를 통해 프로세스 정확성과 반복성을 유지할 수 있습니다. 또한 균일성과 반복성을 향상시키는 조정 가능한 RF 튜닝 포인트가 포함되어 있습니다. 또한 내부 압력 모니터링 (in-situ pressure monitoring) 기능을 통해 실행 간의 높은 프로세스 안정성과 일관성을 보장할 수 있습니다. 반면, 저압 지대는 최대 300W (Peak Power) 를 가지며 유체 제어가있는 2 개의 독립적 인 가스 라인을 갖습니다. 최대 4 개의 전구체의 가스 구성 및 전달은 실시간으로 개별적으로 제어 할 수 있습니다. 저압 에치 화학 (Low pressure etch chemistry) 은 건조 에치 능력이 독특하며 저항 스트리퍼, 에치백, 두께 제어 프로세스 등 여러 프로세스에 적용됩니다. 작동 중 안전을 보장하기 위해 원격 제어 누수 밸브가 포함되어 있습니다. PLASMATHERM SLR 720은 또한 사용자에게 etch 및 ash 프로세스의 중요한 웨이퍼 특성을 모니터링하는 기능을 제공합니다. 온도, 플라즈마 노출, RF 전력 및 챔버의 압력을 모니터링합니다. 또한, 작업 완료를 알리고 웨이퍼의 과잉 처리를 방지하는 EPD (Endpoint Detection) 기능이 있습니다. SLR 720 etcher/asher는 견고성, 유연성 및 정밀도를 결합한 업계 최고의 자산입니다. 이 올인원 (All-in-one) 도구는 다양한 어플리케이션에 사용할 수 있어 뛰어난 효율성과 성능을 제공합니다. 사용 편의성과 높은 수준의 정확성과 정확성을 갖춘 PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720 (PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720) 은 고품질, 신뢰성 있는 웨이퍼 제품을 만들 수 있는 최상의 선택입니다.