판매용 중고 PLASMATHERM / UNAXIS SLR 720 #9270532

PLASMATHERM / UNAXIS SLR 720
ID: 9270532
웨이퍼 크기: 8"
Reactive Ion Etcher (RIE), 8".
PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720은 고급 etcher/asher 장비로, 다양한 기판에서 정밀 패턴화가 가능합니다. 이 시스템은 고급 이온 빔 (ion beam) 과 플라즈마 기술 (plasma technology) 을 사용하여 금속, 고분자 및 도자기를 포함한 광범위한 재료에서 높은 정확도 에칭과 재싱을 달성합니다. UNAXIS SLR 720은 혼합 가스 공정을 사용하여 에칭 속도를 최적화하는 한편, 원치 않는 재료의 오염 및 증착을 최소화합니다. PLASMATHERM SLR 720 (PLASMATHERM SLR 720) 은 직경 최대 7 인치까지 기판을 수용할 수 있도록 설계되었으며, 간단한 로드 잠금 챔버 변경으로 여러 부품에 대한 배치 에칭을 수행할 수 있습니다. 이 장치에는 특허 된 틸트 스테이지 설계 (tilt stage design) 가 포함되어 있으며, 이 사진술은 기판의 다양한 층에서 식각을 지시하는 데 사용됩니다. 이렇게 하면 다른 "시스템 '들 보다 정밀도 와 정확도 가 더 큰 복잡 한" 패턴' 과 구조 를 식각 할 수 있다. 이 기계는 또한 일관된 프로세스를 보장하기 위해 다양한 기능을 제공합니다. 공정 챔버 (process chamber) 는 활성 압력 제어 (active pressure control) 를 특징으로하며, 다양한 에치 레이트와 기판을 수용하기 위해 정확한 압력 조정이 가능합니다. 또한 에치 레이트 증가를위한 진공 펌프 (vacuum pump) 와 다양한 재료에서 패턴의 보다 균일 한 에칭이 포함됩니다. 이 도구에는 인라인 온도 및 가스 흐름 제어 (gas flow control) 가 있어 정확한 프로세스 제어 및 기판 분석이 가능합니다. 또한 SLR 720 은 데이터 수집 (automated data acquisition) 기능을 자동화하고, 데이터 관리 및 분석을 용이하게 하는 통합 소프트웨어 자산을 제공합니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 결과를 쉽게 캡처, 분석하고, 오류를 파악하고, 결과를 반복할 수 있습니다. 이 소프트웨어에는 또한 사용자가 프로세스를 자동화하고 특정 기판 및 응용 프로그램에 대한 에치 (etch) 매개변수를 최적화하는 데 도움이 되는 기능이 포함되어 있습니다. PLASMATHERM/UNAXIS SLR 720에는 etcher/asher 기능 외에도 다양한 진단 기능을 용이하게하는 고급 모델 제어가 포함되어 있습니다. 여기에는 기판 특성, 온도 프로파일 및 임계 값 분석이 포함됩니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 내의 문제를 파악하고 품질 문제가 발생하기 전에 '수정 조치' 를 취할 수 있습니다. 전반적으로 UNAXIS SLR 720 (UNAXIS SLR 720) 은 다양한 재료에서 안정적이고 정확한 패턴을 수행 할 수있는 고급 etcher/asher 장비입니다. 통합 소프트웨어와 고급 제어 (Advanced Control) 기능을 통해 사용자는 프로세스를 손쉽게 모니터링하고 결과의 반복성을 보장할 수 있습니다. 이 시스템은 리서치 (research) 에서 프로덕션 (production) 에 이르기까지 다양한 애플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.
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