판매용 중고 PLASMATHERM SLR 770B #9302637

ID: 9302637
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 1998
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE), 4" With 6" kit Etching silicon uses photoresist mask Gasses: Argon for plasma Sulfur Hexafluoride (SF6) for Silicon etching Octafluorocyclobutane (C4F8) for passivation layer Oxygen (O2) for chamber clean Nitrogen (N2) for venting 1998 vintage.
PLASMATHERM SLR 770B (PLASMATHERM SLR 770B) 는 단일 플랫폼에서 에칭 및 애싱 프로세스를 결합한 독특한 에치 및 애셔 장비입니다. 이 시스템은 독점적 인 Plasma-Therm Pro-Lift ™ 기술을 사용하여 상당한 비용 절감과 함께 더 높은 정밀도 및 반복 성을 달성합니다. 이 장치는 RF 및 DC 플라즈마 에치 (etch) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 모두 활용하여 다양한 에치 및 애싱 응용 프로그램에 이상적입니다. 예를 들어, 이 기술은 불균일 마스크 전체에서 에치 프로파일을 제어하는 데 사용됩니다. 표준 SLR 770B 머신은 온보드 습식 에칭 및 애싱 프로세스를 허용하는 개방형 로드 위치 기능을 제공합니다. 이 도구는 또한 메탈릭 (Metallic) 또는 플라스틱 (Plastic) 기반 재료의 다양한 기판을 수용하여 더 다양한 기능을 제공합니다. 이 기계는 또한 균일 한 에치 깊이, 프로파일 제어, 반복 성을 촉진하기 위해 최적의 에칭 창을 제공하는 고급 셔터 (shutter) 및 리프트 에셋 (lift asset) 으로 설계되었습니다. 또한이 모델에는 플라즈마 에칭 및 애싱 (ashing) 과정 중 오염 및 산화물을 줄이기 위해 질소 공급이 포함됩니다. 이 장비의 다이렉트 드라이브 컨베이어 시스템 (direct-drive conveyor system) 은 안전성과 효율성을 극대화하기 위해 일관되고 맞춤형 에칭 및 애싱 속도를 제공합니다. PLASMATHERM SLR 770B의 온도 조절 기능은 입자 오염에서 벗어나 효율적이고, 품질이 높고, 안전한 에칭 및 애싱 (ashing) 프로세스를 보장합니다. 이 장치는 또한 가장 까다로운 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 요구를 충족시키기 위해 셔틀 플레이트, 받침대, 리프트 및 마스크와 같은 다양한 액세서리를 제공합니다. SLR 770B는 광범위한 생산 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 질화물 에칭, 깊은 실리콘 트렌치 에칭 또는 작은 고해상도 기능, 유기 잔류 물 또는 금속의 재시 (ashing) 기능을 제공합니다. 이 기계는 또한 더 빠른 전환 시간과 안전한 반복 성, 클린 룸 안전 (cleanroom-safe) 작업을 제공합니다. Pro-Lift ™ 창 기법은 균일성과 우수한 열 단열을 촉진하여 프로세스 반복성과 품질을 더욱 높입니다. PLASMATHERM SLR 770B는 5 ~ 500mm 크기의 기질에서 고정밀 시스템을 에칭 또는 ash하는 데 적합합니다. 광범위한 안전 기능을 통해 안전하고 신뢰할 수 있습니다. 이 도구는 ISO 9001 인증을 받았으며 일관성 있고, 고품질 에칭 및 애싱 (ashing) 결과가 필요한 사람에게 적합합니다. 경쟁력 있는 가격으로, SLR 770B는 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 자산이 필요한 사람들에게 이상적인 투자입니다.
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