판매용 중고 PLASMATHERM SLR 770 RIE #293753769

PLASMATHERM SLR 770 RIE는 정확하고 효율적인 마이크로 및 나노 분류 프로세스를 위해 설계된 고급 리에 이온 에칭 (RIE) 장비입니다. SLR 770 RIE는 플라즈마 처리 장비 (Plasma-Therm) 의 선두 제조업체 인 플라즈마-테름 (Plasma-Therm) 이 개발했으며, 광범위한 재료 및 기판에 대한 에칭 및 애싱 응용 분야에서 탁월한 성능을 제공합니다. 이 최첨단 도구는 혁신적인 기술을 통합하여 반도체 장치 제조, MEMS 제조, 기타 연구 개발 (R&D) 어플리케이션에서 고품질의 결과를 제공합니다. PLASMATHERM SLR 770 RIE (PLASMATHERM SLR 770 RIE) 의 주요 기능 중 하나는 다양한 프로세스 기능으로, 사용자가 선택성과 균일성이 높은 다양한 재료를 에칭할 수 있습니다. 이 시스템은 반응성 가스, 플라즈마 화학 및 RF 전력의 조합을 사용하여 에치 깊이 및 피쳐 크기를 정확하게 제어 한 이방성 에치 프로파일 (anisotropic etch profile) 을 생성합니다. 이것은 마이크로 및 나노 스케일 (micro- and nanoscale) 수준에서 기판을 패턴화하고 구조화하여 서브 미크론 해상도와 높은 종횡비 기능을 달성하는 데 이상적입니다. SLR 770 RIE 는 플라즈마 밀도 및 이온 에너지를 정확하게 제어할 수 있는 고출력 RF 생성기를 탑재해 에치 (etch) 프로세스를 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 장치는 레시피 (recipe) 기반 프로세스 제어를 갖춘 정교한 가스 전달 머신 (gas delivery machine) 을 갖추고 있어 프로세스 매개변수를 쉽게 최적화하고 결과를 재현할 수 있습니다. 또한, PLASMATHERM SLR 770 RIE의 챔버 설계 및 펌핑 도구는 높은 공정 안정성과 낮은 입자 오염을 보장하여 일관되고 안정적인 에칭 성능을 제공합니다. 플라즈마 생성 및 제어 측면에서 SLR 770 RIE는 유도 결합 플라즈마 (ICP) 및 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 과 같은 고급 기술을 사용하여 안정적이고 균일 한 플라즈마 방전을 만듭니다. 이를 통해 반응 가스의 효율적인 이온화와 기판 표면의 이온 플럭스 (ion flux) 및 에너지 분포 (energy distribution) 에 대한 정확한 제어를 가능하게하여 이방성 에칭 프로파일이 높고 측면 벽 손상이 최소화됩니다. 자산은 또한 고급 엔드포인트 감지 (endpoint detection) 기술을 통합하여 에치 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 정확한 프로세스 제어 및 엔드포인트 결정을 보장합니다. PLASMATHERM SLR 770 RIE에는 광학 방출 분광학 (OES), 질량 분석법 및 타원계를 포함한 다양한 고급 진단 및 모니터링 도구가 장착되어 있으며, 현장의 플라즈마 화학 및 에치 프로세스를 특징으로합니다. 이러한 기능을 통해 사용자는 프로세스 매개변수를 최적화하고, 문제를 해결하며, 여러 웨이퍼와 프로세스 실행에서 일관된 etch 결과를 얻을 수 있습니다. 이 모델은 또한 직관적인 소프트웨어 제어 (Software Control) 및 데이터 로깅 (Data Logging) 기능을 갖춘 사용자 친화적 인터페이스로, 모든 경험 수준의 사용자에게 손쉬운 운영 및 데이터 분석을 제공합니다. 전반적으로, SLR 770 RIE는 광범위한 마이크로 및 나노 분류 어플리케이션에 뛰어난 성능, 다용성, 사용 편의성을 제공하는 최첨단 반응성 이온 에칭 장비입니다. 고급 프로세스 기능, 플라즈마 매개변수에 대한 정확한 제어, 강력한 챔버 설계, PLASMATHERM SLR 770 RIE는 반도체 및 MEMS 프로젝트에서 고품질 에칭 및 애싱 결과를 달성하려는 연구원, 엔지니어, 제조업체에 없어서는 안될 도구입니다.