판매용 중고 PLASMATHERM SLR 720 #9123968

제조사
PLASMATHERM
모델
SLR 720
ID: 9123968
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 1999
Reactive Ion Etcher (RIE), 4" Plasma shuttle-lock load-lock loading system Platen transfer 700 Al Chamber PC Window based system, 11" ADVANCED ENERGY RFPP RF Generator 500 W Matching network (2) Mechanical pumps NESLAB HX 75 Chiller LEYBOLD 361C Turon LEYBOLD NT 150/360 Controler Gas distribution center (4) Mass flow controllers: BCl3-100, Cl2-50, O2-100, N2-50 Manuals included Power supply: 208 V, 3-Phase 1999 vintage.
PLASMATHERM SLR 720은 고급 재료의 정밀 에칭 및 재싱을 위해 설계된 플라즈마 에처/애셔입니다. SLR 720 은 빠른 속도, 정확성, 균일성으로 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 기능을 제공하며, 반도체 업계에서 다양한 에칭 및 애싱 (ashing) 애플리케이션을 위한 이상적인 선택입니다. PLASMATHERM SLR 720은 최대 800 nm/min의 표준 에칭 속도를 갖는 고 처리량 장치입니다. 또한 이중 챔버 엔진과 4 채널 RF 생성기를 사용하는 효율적인 플라즈마 소스가 있습니다. 이를 통해 이온 에너지가 낮고 웨이퍼 전체의 균일성이 뛰어난 고성능 에칭 (etching) 공정이 가능합니다. 또한, SLR 720에는 사용자가 사용자정의 매개변수를 입력, 제어할 수 있는 고급 제어 시스템이 있습니다. 이러한 매개변수에는 etch 및 ashing 매개변수, RF 생성기 설정 및 챔버 압력이 포함됩니다. PLASMATHERM SLR 720에는 사용하기 쉽고, 직관적이며, 사용자 친화적인 GUI (Graphical User Interface) 가 포함되어 있어 에칭 및 어싱 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 또한 3D 시각 형상 도구 (3D Visualization Tool) 를 사용하여 에치 (Etch) 및 애쉬 (Ash) 프로세스를 실시간으로 볼 수 있으며 웨이퍼 전체에 안정성과 균일성이 추가되었습니다. SLR 720은 에칭 및 애시언에 건조 저압 (DLPO) 공정을 사용합니다. 이 공정 은 높은 "가스 '유속 을 이용 하여" 이온' 과 반응성 "가스 '를 들여 주며, 이것 을 통해 더 높은" 에칭' 과 발진 처리량 과 더 빠른 처리 시간 을 낼 수 있다. PLASMATHERM SLR 720에는 가스 및 압력 안전 모니터링, 자동 가스 차단, 매니 폴드 제어 장치 등 다양한 고급 안전 기능이 있습니다. 따라서 다양한 안전 크리티컬 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 전반적으로 SLR 720 은 반도체 업계의 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 애플리케이션에 이상적인 선택입니다. 고성능, 고속, 정확한 운영 환경을 갖춘 이 제품은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 애플리케이션을 위한 일관된 결과와 안정적인 성능을 추구하는 업계에 적합한 솔루션입니다.
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