판매용 중고 PLASMATHERM Odyssey #293752702

PLASMATHERM Odyssey는 고급 반도체 장치 제작을 위해 설계된 고급 플라즈마 처리 기능을 갖춘 최첨단 에처/애셔 (echer/asher) 입니다. 이 혁신적인 도구는 탁월한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 성능을 제공하여 반도체 제조를 위한 플라즈마 처리 분야의 핵심 업체입니다. 오디세이 (Odyssey) 는 광범위한 프로세스 커스터마이징과 유연성을 제공하는 다목적 설계로, 대용량 생산 환경뿐만 아니라 연구 개발 (R&D) 에 이상적입니다. 고급 제어 장비 (Advanced Control Equipment) 는 프로세스 매개변수를 정확하게 튜닝하여 사용자가 최소한의 변화로 고품질 결과를 얻을 수 있도록 합니다. PLASMATHERM Odyssey (PLASMATHERM Odyssey) 의 주요 기능 중 하나는 이중 주파수 플라즈마 소스로, 프로세스 제어 및 효율성이 향상되었습니다. 이 시스템은 저주파 (low frequency) 와 고주파 (high frequency) 를 모두 활용하여 다양한 에칭 및 애싱 (ashing) 애플리케이션에 최적화된 플라즈마 환경을 만들 수 있습니다. 이 이중 주파수 (Dual-Frequency) 기능을 통해 탁월한 Etch 선택성, 프로파일 제어 및 균일성을 제공하여 장치 성능 및 수익률을 높일 수 있습니다. 오디세이 (Odyssey) 에는 다양한 가스 전달 시스템 및 프로세스 모니터링 도구가 장착되어 있어 최적의 프로세스 조건과 종단점 탐지를 보장합니다. 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 는 프로세스 가스의 정확한 혼합물을 챔버에 전달 할 수 있으며, 특정 장치 요구 사항에 대한 플라즈마 화학의 미세 튜닝을 가능하게한다. 또한이 기계에는 광학 방출 분광법 (OES) 및 질량 분석법 (mass spectrometry) 과 같은 고급 엔드 포인트 감지 기술이 포함되어 있으며, 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 정확한 etch 및 ash endpoint 결정을 보장합니다. 향상된 프로세스 제어 및 반복 가능성을 위해 PLASMATHERM 오디세이 (Odyssey) 는 고급 RF 전원 도구를 통해 이중 주파수 소스를 독립적으로 제어할 수 있습니다. 이를 통해 전원 수준 (power level) 과 주파수 (frequency) 를 정확하게 조정하여 플라즈마 특성을 최적화하여 광범위한 재료 및 프로세스 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 이 자산에는 고급 임피던스 매칭 (impedance matching) 기능이 포함되어 있어 플라즈마로의 효율적인 전력 전송이 가능하므로 프로세스 안정성과 균일성이 향상됩니다. 오디세이 (Odyssey) 는 다양한 기판 크기와 프로세스 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 챔버 구성 및 웨이퍼 처리 옵션을 갖추고 있습니다. 다목적 설계를 통해 배치 (batch) 및 단일 웨이퍼 (single-wafer) 처리가 가능하므로 반도체 업계의 광범위한 애플리케이션에 적합합니다. 또한, 이 모델은 직관적인 소프트웨어 제어 (Software Control) 기능을 갖춘 사용자 친화적 인터페이스를 통해 복잡한 프로세스를 손쉽게 설정, 운영할 수 있습니다. 결론적으로, PLASMATHERM Odyssey는 반도체 제조 응용 프로그램에 탁월한 프로세스 제어, 유연성 및 성능을 제공하는 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 고급 플라즈마 처리 기능, 이중 주파수 플라즈마 소스 (Dual-Frequency Plasma Source), 정밀 제어 시스템 (Precise Control System) 및 종합적인 프로세스 모니터링 툴을 통해 반도체 장치 제작에서 고품질 결과를 얻으려는 연구원 및 제조업체에 필수적인 툴입니다.