판매용 중고 PLASMATHERM 790 #9156748
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ID: 9156748
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Windows: PC Controlled with flat panel display
Lower electrode, 11"
MKS 919 Ion gauge controller
ADVANCED ENERGY RFPP RF10S Power supply, 1000 W
LEYBOLD 361C Turbo 208 V
Gas panels:
5 MFCs
O2-50 sccm
Cl2-100 sccm
Ar-200 sccm
CF4-200 sccm
CHF3-200 sccm
No pumps / Chillers
1996 vintage.
PLASMATHERM 790은 LPKF에서 만든 에처/애셔입니다. 무선 주파수 생성기를 사용하여 790은 비등방적으로 단일 또는 다중 레이어 PCB를 스크래치 표면이 아닌 최소 너비 (20µm) 로 에칭 할 수 있습니다. 이 장치의 고급 프로세스 제어 알고리즘 (Advanced Process Control Algorithm) 은 업계 최고의 처리량과 품질로 까다롭고 반복 가능한 프로세스 요구 사항을 충족합니다. PLASMATHERM 790은 고급 정밀 에칭 기계입니다. 자동 프로세스 제어 알고리즘 (Automated Process Control Algorithm) 과 에칭 주기 (Etching Cycle) 시간을 최적화하는 고급 워크플로우 (Advanced Workflow) 기능으로 설계되어 처리량이 높고 품질이 향상됩니다. 790은 최소 라인 너비가 20äm 인 단일 및 다중 계층 PCB (multilayer PCB) 를 처리 할 수 있으므로 용도가 다양합니다. 또한 혁신적인 에칭 프로세스를 통해 탁월한 비 스크래치 표면을 제공합니다. PLASMATHERM 790은 사용하기 쉽고 유지 관리가 용이합니다. 직관적 인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 연산자는 긴 학습 곡선 (long learning curve) 을 거치지 않고도 기계를 빠르게 최대한 활용할 수 있습니다. 또한, 각 작업의 개별 요구 사항을 충족하기 위해 설정을 쉽게 사용자 정의할 수 있습니다. 790 전원을 공급하기 위해 저전압에서 매우 높은 전류를 생성 할 수있는 20kHz 무선 주파수 (Radio Frequency) 생성기를 사용합니다. 모든 종류의 에칭 (etching) 프로세스에 적합한 음이온 또는 양이온 (positive ion) 에 대해 장비를 구성할 수 있습니다. PLASMATHERM 790은 UV flashlamp 노출 시스템 (옵션) 과 결합하여 향상된 결과를 제공 할 수도 있습니다. "마이크로 '파 발전기 의 높은 전류 역시 매우 빠른 속도 로" 에칭' 이 일어나게 한다. 790은 안전을 염두에 두고 설계되었습니다. 이 장치는 EMC 디렉티브를 준수하며 CE 및 CA 인증을 받았습니다. 또한 먼지 입자 를 "필터링 '할 뿐 아니라, 식각" 보드' 의 오염 을 방지 할 수 있는 고급 필터 머신 이 있다. 전체적으로 PLASMATHERM 790 (PLASMATHERM 790) 은 단일 및 다중 계층 PCB 에칭을 위한 탁월한 선택입니다. 최소 선 너비 20äm의 고품질 결과를 낼 수 있기 때문입니다. 고급 프로세스 제어 알고리즘 (Advanced Process Control Algorithm) 은 사용 및 유지 관리가 용이하며, 무선 주파수 생성기 (Radio Frequency Generator) 는 고속 에칭을 보장합니다. 안전 측정을 통해 신뢰할 수 있고 안전한 에칭 툴이 되며 UV 노출 자산 (옵션) 을 통해 PCB 에칭 프로세스를 위한 다용도 및 귀중한 툴이 됩니다.
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