판매용 중고 PLASMATHERM 790 #293775968

PLASMATHERM 790은 고급 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 장치 제작 프로세스를 위해 설계된 최첨단 플라즈마 에처/애셔 장비입니다. 이 다목적 시스템은 세계 반도체 산업을위한 플라즈마 처리 장비의 주요 공급 업체 인 플라즈마-테름 (Plasma-Therm) 에서 제조합니다. 790은 혁신적인 플라즈마 에칭 (Etching) 및 애싱 (Ashing) 기술을 사용하여 정밀도 및 효율성이 높은 반도체 재료를 정확하게 패턴화하고 청소합니다. 견고한 디자인과 최첨단 기능을 갖춘 이 장치는 포토리스 (photoresist) 제거, 유전체 에칭, 금속 에칭 등 다양한 어플리케이션에 적합합니다. PLASMATHERM 790 (PLASMATHERM 790) 의 주요 특징 중 하나는 고급 진공 챔버 설계로, 플라스마 처리를 위해 통제 된 환경을 제공합니다. 이 기계는 훌륭한 진공 밀봉 기능을 갖춘 고품질 스테인리스 스틸 챔버 (Stainless Steel Chamber) 를 갖추고 있어 원하는 프로세스 조건을 유지하고 기판 표면에서 균일성을 향상시킵니다. 790 은 여러 개의 Gas Inlet 포트를 통합하여 프로세스 가스 및 흐름 속도를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 사용자는 특정 요구 사항에 따라 플라즈마 화학을 조정할 수 있으며, 다른 재료 및 장치 구조에 대한 최적화된 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 용이하게합니다. 또한, 이 도구에는 정교한 RF 전원 공급 장치 및 임피던스 매칭 네트워크 (impedance matching network) 가 장착되어 있어 플라즈마 생성 및 배포를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 기판 전체에 걸쳐 프로세스 가스 (process gase) 와 균일 한 플라즈마 분포 (uniform plasma distribution) 를 효율적으로 이온화하여 일관되고 반복 가능한 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. PLASMATHERM 790은 단일 및 이중 주파수 플라즈마 생성을 모두 지원하는 다재다능한 전극 구성을 특징으로합니다. 이러한 유연성을 통해 사용자는 고밀도 플라즈마 에칭 (plasma etching) 이든 저해상도 (low-damage ashing) 이든 프로세스 요구 사항에 따라 적절한 플라즈마 소스 구성을 선택할 수 있습니다. 또한, 자산에는 에칭 (etching) 또는 애싱 (ashing) 프로세스 전반에 걸쳐 안정적이고 지속적인 플라즈마 작동을 보장하는 고급 플라즈마 소스 디자인이 장착되어 있습니다. 이 기능은 반도체 제조에서 높은 공정 반복 성과 생산량을 달성하는 데 필수적입니다. 또한 790 은 최첨단 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 통해 실시간 프로세스 최적화를 지원합니다. 이 모델에는 프로세스 완료를 정확하게 결정할 수있는 고급 엔드포인트 탐지 기술 (Advanced Endpoint Detection Technology) 이 포함되어 있으며, 오버 etching을 피하면서 포토 esist 또는 기타 재료의 정확한 제거를 보장합니다. 또한, PLASMATHERM 790 은 사용자에게 친숙한 인터페이스와 직관적인 소프트웨어 제어 기능을 제공하여, 운영자가 쉽게 프로세스를 설정하고 장비 성능을 모니터링할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 원격 모니터링 및 진단 기능을 지원하므로, 효율적인 유지 관리 및 문제 해결을 통해 다운타임을 최소화하고 생산성을 극대화할 수 있습니다. 전반적으로, 790은 반도체 및 마이크로 일렉트로닉스 제작 프로세스에 뛰어난 성능, 다용도 및 신뢰성을 제공하는 고도의 플라즈마 에처/애셔 장치입니다. 최첨단 기능, 기능을 갖춘 이 머신은 반도체 (반도체) 업계의 첨단 연구· 생산 설비를 위한 귀중한 도구다.