판매용 중고 PLASMATECH RIE-80 #293592300

PLASMATECH RIE-80은 일반적으로 반도체 웨이퍼를 에칭 및 세척하는 데 사용되는 에처/애셔입니다. 이 정교한 시스템은 고급 프로세스와 기술을 결합한 것으로, 엔지니어, 전문가, 엔지니어 중에서 널리 사용되는 선택입니다. RIE-80은 열적으로 안정적인 하드웨어와 사용이 간편한 고급 제어 소프트웨어를 기반으로 합니다. 이 제품은 3 개의 공동으로 구동되는 플라즈마 (plasma) 기술을 갖추고 있으며, 광범위한 응용 분야와 재료에서 재료를 에치, 애셔 및 예금 할 수 있습니다. 전체 시스템의 자동 컴퓨터 제어 (Automated computer control) 를 통해 원활한 사용자 환경을 구축할 수 있으며, 각/모든 주기에서 최고 수준의 결과를 얻을 수 있습니다. 유도 소스의 전력은 20 ~ 200 와트이며 디지털 레이저 전원 제어에 의해 제어됩니다. 이것은 정확하고 일관된 에칭/애싱을 보장합니다. PLASMATECH RIE-80에는 3 차원 디지털 가스 매니 폴드 (Digital Gas Manifold) 및 에칭 재료 인제터가 장착되어 있어 효율성이 향상되고 프로그래밍이 빠릅니다. 최적의 성능을 위해 내장된 자동 모니터링 및 샘플링 구성 요소가 있습니다. 이 컴포넌트는 매개변수와 설정이 항상 허용 범위 (acceptable range) 내에 있고 초과 (excess) 가 아닌지 확인합니다. RIE-80이 수행 한 에치 (etch) 에는 얕은 윤곽선, 거친 표면 및 균일 하지 않은 표면이 있으며, 종횡비가 높으며, 모두 현대 반도체 생산 공정에서 바람직합니다. 이 시스템은 또한 자동로 (automatic furnace) 차단, 균일 한 온도, 낮은 에너지 소비를 포함하여 환경 및 안전 준수를 위한 엄격한 요구 사항을 준수합니다. PLASMATECH RIE-80은 고품질 에칭 및 애싱 프로세스로 널리 알려져 있지만, 용도는 그치지 않습니다. 유연성과 다재다능성 덕분에 화학 증기 증착 (CVD), 물리적 증기 증착 (PVD), 스퍼터링 및 반응성 이온 에칭 (RIE) 과 같은 다양한 다른 프로세스에 사용할 수 있습니다. 전반적으로 RIE-80은 견고하고, 다양하며, 정확하고, 효율성이 높은 etcher/asher 솔루션으로, 매번 안정적이고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 제품은 정교한 하드웨어와 소프트웨어로, 전문가와 엔지니어 (Engineer-in-Training) 를 위한 완벽한 선택입니다.