판매용 중고 PLASMA TECHNOLOGY RIE 800 #293831459

PLASMA TECHNOLOGY RIE 800은 PLASMA TECHNOLOGY를 사용하여 반도체 제조 공정을 향상시키는 최첨단 Etcher/Asher 장비입니다. 첨단 기능과 정밀 제어 기능을 갖춘 이 툴은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에 대한 반도체 업계의 까다로운 요구 사항을 충족할 수 있도록 설계되었습니다. RIE 800의 핵심에는 리에 이온 에칭 (RIE) 시스템 (Reactive Ion Etching) 시스템이 있는데, 이 시스템은 반응성 가스의 플라즈마를 사용하여 높은 선택성과 정밀도의 기질에서 물질을 제거합니다. 이 기술을 사용하면 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 고도로 제어하여 웨이퍼 전체에서 균일성과 재생성을 보장합니다. PLASMA TECHNOLOGY RIE 800 (PLASMA TECHNOLOGY RIE 800) 에는 다양한 기능과 기능이 장착되어 있어 반도체 제조를 위한 다용도 및 신뢰할 수 있습니다. 이 장치 의 한 가지 주요 특징 은 첨단 "가스 '전달 기계 인데, 이 기계 는 공정 에 사용 되는 반응성 있는" 가스' 의 유속 과 비율 을 정확 히 제어 할 수 있게 해 준다. 이렇게 하면 에칭 (etching) 또는 애싱 (ashing) 프로세스가 최적의 효율성과 선택성으로 수행됩니다. 또한 RIE 800에는 안정적이고 균일 한 플라즈마 방전을 생성하는 최첨단 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. 이 "플라즈마 '원 은 심지어 넓은 기판 영역 에서도 일관성 있고 믿을 만한" 에칭' 결과 를 이루는 데 필수적 이다. 이 도구는 또한 정교한 RF 전원 공급 장치 (Plasma Density and Energy) 를 정확하게 제어하여 에칭 프로세스 매개변수를 세밀하게 튜닝 할 수있는 정교한 RF 전원 공급 장치를 갖추고 있습니다. PLASMA TECHNOLOGY RIE 800은 반도체 제조업체의 다양한 요구를 충족시키기 위해 다양한 에칭 및 애싱 옵션을 제공합니다. 산화물 에칭 (oxide etching), 실리콘 에칭 (silicon etching) 또는 포토레시스트 애싱 (photoresist ashing) 이든, 이 에셋은 높은 정확도와 반복성으로 원하는 결과를 전달하도록 구성 될 수 있습니다. 이 도구는 또한 다양한 기판 크기와 재료를 처리 할 수 있으며, 다양한 반도체 제조 (semiconductor manufacturing) 응용 분야를위한 다용도 솔루션입니다. 운영 및 사용자 인터페이스 측면에서 RIE 800 은 사용 편의성과 효율성을 위해 설계되었습니다. 이 모델에는 직관적인 소프트웨어 인터페이스 (software interface) 가 장착되어 있어 운영자가 에칭 (etching) 또는 어싱 (ashing) 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 실시간 모니터링 (Real-time monitoring) 및 피드백 (feedback) 시스템은 프로세스 매개변수에 대한 중요한 데이터를 운영자에게 제공하여 원하는 사양 내에서 공구가 작동하도록 합니다. 전체적으로 PLASMA TECHNOLOGY RIE 800은 반도체 제조 공정에 대한 정밀도, 안정성 및 다용성을 제공하는 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 고급 PLASMA 기술 (PLASMA TECHNOLOGY), 정교한 기능, 사용자 친화적인 인터페이스를 갖춘 이 툴은 고품질 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 결과를 극대화하고자 하는 반도체 제조업체에 적합한 자산입니다.