판매용 중고 PLASMA SYSTEMS DES-206254-AVE3 #9280797

PLASMA SYSTEMS DES-206254-AVE3은 집적 회로 및 기타 소형 전자 부품의 대량 생산을 위해 설계된 플라즈마 에처/애셔입니다. 공정의 매개변수를 정확하게 제어하여 탁월한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장비는 건식 에칭 (dry etching), 습식 에칭 (wet etching) 및 가스화 에칭 (gasified etching) 의 다단 공정을 특징으로하며 기판에 미세하고 균일 한 패턴을 만듭니다. 건식 에칭 단계는 고주파 전원 공급 장치 (high-frequency power supply) 를 사용하여 아르곤, 산소, 질소와 같은 가스를 자기 이온화하여 플라즈마를 형성하는 것으로 시작됩니다. 그런 다음, 자기장 이 "기판 '에 적용 되어 재료 의 식각 속도 와" 패턴' 을 모두 조절 한다. 습식 에칭 단계는 화학 물질을 사용하여 금속 및 절연 표면을 따라 정확한 패턴을 만듭니다. 마지막으로, 가스화 된 에칭 스테이지는 전자 빔을 사용하여 기판에 매우 미세한 패턴을 만듭니다. 시스템은 에칭/어싱 (etching/ashing) 프로세스의 여러 단계에 대해 최소한의 연산자 변경이 필요한 모듈식 설계를 제공합니다. 주요 작동 구성 요소에는 전원, 애싱 챔버, 웨이퍼 로딩 카세트, 진공 펌프, 레이저 뷰어, 난방 오븐 및 안전 센서가 포함됩니다. 또한, 프로세스에 대한 정확한 제어를 제공하는 센서와 피드백 시스템이 있습니다. DES-206254-AVE3 장치는 고성능 복잡한 설계를 생산하는 강력한 수단을 제공합니다. 설계는 몇 가지 운영자 조정으로 높은 정확성과 반복 성을 허용합니다. 또한 모듈식 설계 (Modular Design) 를 통해 각 개별 응용 프로그램에 맞게 프로세스를 최적화하기 위해 매개변수를 매우 쉽게 변경할 수 있습니다. 마지막으로, 기계에 포함 된 안전 (Safety) 기능은 운영자와 부품 모두에게 최적의 안전성을 제공합니다. 결론적으로 PLASMA SYSTEMS DES-206254-AVE3 Plasma Tool은 전자 부품을 대량 생산하는 데 효과적인 etcher/asher입니다. 다단계 프로세스 (Multi-Stage Process) 와 매개변수에 대한 정확한 제어 (Control over parameters) 는 사용이 간편한 설계와 통합된 안전 기능과 결합하여 이 자산을 전자 업계에 종사하는 사람들에게 이상적인 선택으로 만듭니다.