판매용 중고 PLASMA PECS 600 #9235333

PLASMA PECS 600은 반도체 및 기타 마이크로 일렉트로닉 응용 분야에 사용하기 위해 개발 된 컴퓨터 제어 에처 및 애셔입니다. 다양한 에치 화학 물질 (etch chemistry) 을 통해 신뢰할 수있는 에칭 및 애싱 (ashing) 프로세스를 제공 할 수있는 효율적이고 정확한 도구입니다. PECS 600은 가스 패널 (gas panel) 과 PLASMA 챔버 (PLASMA chamber) 로 구성되며, 둘 다 균일 한 에칭 및 애싱 프로세스를 제공하기 위해 함께 작동하도록 설계되었습니다. 가스 패널은 후면 가스 패널, 2 개의 측면 가스 패널 및 전면 가스 패널로 구성됩니다. 이 패널을 통해 사용자는 공정에서 사용되는 에치 화학 물질 (etch chemistry) 의 유속 (flow rate) 과 압력 (pressure) 을 조정할 수 있습니다. 약실 은 기판 의 "에칭 '과" 애싱' 을 균일 하게 제공 하며, 여러 가지 "웨이퍼 '크기 에 맞게 조정 할 수 있다. PLASMA PECS 600 (PLASMA PECS 600) 은 또한 간단하고 사용하기 쉬운 프로세스 매개변수 제어를 위해 설계된 컴퓨터 제어 시스템 및 소프트웨어를 사용합니다. 이 시스템을 통해 사용자는 다양한 레시피 중에서 선택할 수 있으므로 프로세스 결과를 정확하게 확인할 수 있습니다 (영문). 또한 사용자는 이 소프트웨어를 통해 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 조정할 수 있으며, 프로세스 기능 향상 (enhanced process capability) 을 제공합니다. PECS 600은 빠르고 반복 가능한 고품질 결과를 제공할 수 있습니다. 다양한 에치 화학 물질 (etch chemistry) 로 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 정확하게 제어하도록 설계되었습니다. 또한 이 시스템은 에칭 속도 (etching speed) 와 균일성 (unifority) 을 최적화하기 위해 조정할 수 있는 프로세스 매개변수에 쉽게 연산자를 액세스할 수 있습니다. PLASMA PECS 600 (PLASMA PECS 600) 은 안정적이고 정확한 프로세스 제어를 제공하는 정교한 소프트웨어와 하드웨어를 갖춘 효율적인 etcher/asher입니다. 단순 수술, 균일 한 에칭/애싱 (etching/ashing) 결과, 광범위한 에치 화학은 매번 신뢰할 수있는 결과를 제공하므로 반도체 및 마이크로 일렉트로닉 응용에 이상적인 도구입니다.