판매용 중고 OXFORD PlasmaPro 80 #293812430

OXFORD PlasmaPro 80은 고급 전자 및 마이크로 일렉트로닉 부품 제조에 사용되는 최첨단 에처 및 애셔입니다. PlasmaPro 80 (PlasmaPro 80) 은 에칭 및 애싱 (ashing) 프로세스를 정확하게 제어할 수 있도록 특별히 설계되었습니다. 최고 수준의 정확도로 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 이 가능하여 고급 전자 제품 제조에 적합한 선택입니다. 옥스포드 플라스마 프로 80 (OXFORD PlasmaPro 80) 은 보다 정밀하고 효율적인 에칭 및 애싱 결과를 촉진하도록 설계된 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 여기에는 다양한 온도 조절을 제공하는 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) 챔버가 있어 금속 및 유전체의 에칭 및 재싱이 개선되었습니다. 이 챔버에는 고속 펄스 플라즈마 (pulsed plasma) 시스템도 장착되어 있어 에칭 및 애싱 (ashing) 프로세스를 보다 정확하게 제어 할 수 있습니다. PlasmaPro 80에는 장치 상에 균일 한 층의 재료를 자동으로 증착 할 수있는 Autodeposition 챔버도 포함되어 있습니다. 고출력 마이크로파 발전기를 사용하여 플라즈마를 만들어 증착 공정을 향상시킵니다. 사용자는 다양한 매개변수 중에서 선택할 수 있으므로 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 성능을 최적화할 수 있습니다. 옥스포드 플라스마 프로 80 (OXFORD PlasmaPro 80) 은 또한 뛰어난 프로세스 반복성을 제공하여 사용자가 프로덕션의 일관성을 보장합니다. 이것뿐만 아니라, 매우 세밀한 에칭 (etching) 과 애싱 (ashing) 을 제공하여 생산 과정에서 더 복잡한 구성 요소를 제공 할 수 있습니다. 내장 사용자 인터페이스를 사용하면 프로세스를 쉽게 제어하고 모니터링할 수 있습니다. PlasmaPro 80에는 동적 주파수 범위 (dynamic frequency range) 가 있으며, 각 프로세스마다 속도 제어를 제공하는 동시에 여러 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 이 기능은 제품 생산의 효율성을 높이고 처리 시간을 줄여줍니다. OXFORD PlasmaPro 80은 금속과 유전체의 정밀 에칭 및 재싱에 적합한 선택입니다. 동적 주파수 범위 (Dynamic Frequency Range), 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 및 자동 증착 시스템 (Automated Deposition System) 을 통해 다양한 그 어느 때 보다도 정확성 과 세부점 이 더 큰 "제품 '을 생산 할 수 있다.