판매용 중고 OXFORD Plasmalab 800 Plus #293773561
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
OXFORD Plasmalab 800 Plus는 고급 반도체 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 최첨단 etcher/asher 장비입니다. 이 정교한 장비는 다양한 기능을 제공하여 나노 기술, 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics), 재료 과학 (materials science) 분야의 연구 개발에 이상적입니다. 고성능, 안정성, 유연성을 갖춘 Plasmalab 800 Plus는 정확하고 효율적인 플라즈마 프로세싱을 위한 선도적인 솔루션으로 평가받고 있습니다. OXFORD Plasmalab 800 Plus의 중심에는 고급 RF (무선 주파수) 유도 기술이 장착 된 다용도 플라즈마 에칭/애싱 챔버가 있습니다. 이렇게 하면 고도 의 균일 하고 제어 된 "플라즈마 '를 생성 할 수 있으며, 고선택성 과 고면적 비율 로" 에치' 를 정밀 하게 하고 제거 할 수 있다. 이 챔버 (Chamber) 는 우수한 열 안정성과 부식에 대한 내성을 보장하기 위해 고품질 재료 (HA) 로 구성되어 광범위한 공정 기체 및 화학 물질을 처리 할 수 있습니다. 이 시스템에는 프로세스 가스 (process gase) 와 유속 (flow rate) 을 정확하게 제어 할 수있는 최첨단 가스 전달 장치가 장착되어 있습니다. 즉, 일관되고 반복 가능한 처리 환경을 보장하며, 연구/운영 환경에서 고품질의 결과를 달성하는 데 매우 중요합니다. 가스전송기 (Gas Delivery Machine) 는 사용자 친화적이며, 직관적인 제어 및 실시간 모니터링 기능을 통해 특정 애플리케이션의 프로세스 매개변수를 최적화합니다. Plasmalab 800 Plus에는 플라즈마 에너지 수준을 정확하게 제어하는 정교한 RF 전원 공급 장치가 있습니다. 이를 통해 연구원과 엔지니어는 에칭 (etching), 애싱 (ashing) 또는 플라즈마 클리닝 (plasma cleaning) 과 같은 다른 프로세스의 요구 사항에 맞게 플라즈마 특성을 조정할 수 있습니다. 전원 공급 장치는 효율이 높고 안정성이 높으며, 일관되고 균일한 플라즈마 (plasma) 상태를 제공하여 일관된 결과와 향상된 프로세스 제어를 제공합니다. 옥스포드 플라즈말랩 800 플러스 (OXFORD Plasmalab 800 Plus) 의 주요 강점 중 하나는 다양한 어플리케이션에 대한 유연성과 적응성입니다. 이 도구는 반응성 이온 에칭 (RIE), 유도 결합 플라즈마 (ICP) 에칭 및 다운 스트림 플라즈마 애싱을 포함한 다양한 플라즈마 에칭 및 애싱 기술을 지원합니다. 이 다양성을 통해 사용자는 다양한 프로세스 매개변수와 화학 물질을 탐색하여 다양한 재료 및 구조에 대한 에칭 속도 (etching rate), 선택성 (selectivity) 및 서피스 마무리를 최적화 할 수 있습니다. 또한, Plasmalab 800 Plus 에는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능이 장착되어 있어 결과의 정확성과 재현성을 보장합니다. 이 자산은 정교한 엔드 포인트 감지 시스템을 통합하여 에치 깊이를 정확하게 제어하고 오버-에칭 (over-etching) 을 방지하여 섬세한 구조와 기판을 보호합니다. 또한, 고급 프로세스 진단 도구를 사용하면 플라즈마 매개변수, 가스 농도, 챔버 (chamber) 조건을 실시간으로 모니터링하여 프로세스 편차를 신속하게 감지하고 수정할 수 있습니다. 결론적으로, OXFORD Plasmalab 800 Plus는 다양한 반도체 처리 어플리케이션에 뛰어난 성능, 안정성, 유연성을 제공하는 고급적이고 다목적 etcher/asher 모델입니다. 최첨단 기술, 정밀 제어 및 고급 모니터링 기능을 갖춘 Plasmalab 800 Plus (Plasmalab 800 Plus) 는 마이크로 일렉트로닉스, 나노 기술 및 재료 과학의 선봉을 담당하는 연구원 및 엔지니어에게 유용한 도구입니다. 혁신적인 플라즈마 (Plasma) 처리 솔루션을 위한 플랫폼을 제공함으로써, 이 장비는 차세대 장치와 기술의 발전에 기여합니다.
아직 리뷰가 없습니다