판매용 중고 OXFORD Plasmalab 800 Plus #293620207
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ID: 293620207
PECVD System
Gas configuration:
NH3 50 SCCM
SiH4 5% N2 95% 1SLM
N2O 200 SCCM
N2 2000 SCCM
CF4 80% O2 20% 500 SCCM.
OXFORD Plasmalab 800 Plus etcher/asher는 마이크로 전자 및 연구 산업의 응용 분야를 위해 설계된 고성능, 비용 효율적인 에칭 및 애싱 장비입니다. 7.5 리터의 큰 작업량을 통해 사용자는 한 번에 최대 4 개의 웨이퍼를 에치 앤 애셔 할 수 있으며, 3 mTorr의 저기압 (low base pressure) 은 다양한 에칭 및 애싱 프로세스에 적합합니다. Plasmalab 800 Plus (Plasmalab 800 Plus) 는 직관적인 사용자 인터페이스를 갖춘 고급 전자 시스템 (Advanced Electronics System) 을 통해 사용자가 에칭 및 애싱 프로세스를 구성하고 조정할 수 있습니다. 여기에는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 매개변수를 설정하고 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 레시피 편집기가 포함됩니다. 이 장치의 집적 질량 흐름 제어기 (integrated mass flow controller) 는 가스 흐름이 항상 적절한 비율로, 그리고 올바른 순도로 추가되도록 합니다. 옥스포드 플라즈말랩 800 플러스 (OXFORD Plasmalab 800 Plus) 는 산화물 에칭, 수동화 및 활성화를 포함한 다양한 응용 분야에 다양한 에칭 및 애싱 화학을 제공합니다. 3 챔버 디자인은 다양한 에칭 구성을 가능하게하며, 유도 결합 플라즈마 소스 (inductively coupled plasma source) 및 광선 방전 소스 (glow discharge source) 를 포함한 여러 프로세스 옵션이 있습니다. 또한, 이 기계는 웨이퍼 정렬을위한 아이 사페 레이저 소스 (eyesafe laser source for wafer alignment), 샘플 정렬을위한 수동 소스 (manual source for sample alignment) 및 전용 애싱 챔버 (ashing chamber) 와 같은 다양한 다른 유용한 기능을 제공합니다. 이 도구는 옥스포드 플라즈말랩 IC (OXFORD Plasmalab IC) 소프트웨어와 함께 완전 자동화 모드로 작동 할 수 있으며, 사용자는 에칭 및 애싱 시퀀스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 이 소프트웨어를 통해 사용자는 자신의 레시피를 설정하고 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있으며, 다양한 알람 (alarm) 과 안전 (safety) 기능을 필요에 맞게 구성할 수 있습니다. 전체적으로 Plasmalab 800 Plus (Plasmalab 800 Plus) 는 안정적이고 비용 효율적인 방법으로 재료를 정확하고 정확하게 에치 앤 애셔링합니다. 첨단 기능, 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface), 자동화된 기능을 통해 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 및 리서치 업계의 많은 애플리케이션에 적합한 솔루션을 선택할 수 있습니다.
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