판매용 중고 OXFORD Plasmalab 100 #293748565

OXFORD Plasmalab 100은 고급 샘플 준비 및 증착 응용 프로그램을 위해 설계된 etcher/asher 장비입니다. 저전자 전압이 장착 된 멀티 음극 에처 및 애셔 조합입니다. 패턴 설계 (pattern design) 및 프로세스 매개변수 (process parameter) 선택의 완전한 유연성을 제공하며 표준 기판으로 작동할 수 있습니다. Plasmalab 100은 3 개의 독립적 인 20cm 직경 에치 챔버를 특징으로하며, 각각 2 개의 움직이는 마그네트론 음극으로 구성되어 각 챔버에서 이중 및 삼중 프로세스를 허용합니다. 마그네트론 (magnetron) 의 고속 스캔은 정적 동작 (static operation) 옵션과 함께 좋은 에치 균일성과 제어를 산출합니다. 공정 "가스 '는 다른 속도 로 도입 되므로, 항상" 에치/애쉬' 공정 을 위한 최적 의 농도 에 있게 된다. 이 시스템에는 여러 구성 가능한 프로세스 매개변수와 피쳐가 포함되어 있습니다. 음극 전원은 0 ~ 350 W 사이에서 설정할 수 있으며 에너지는 1 W 단위로 변경할 수 있습니다. 프로세스의 무결성을 보장하는 안전 연동 (Safety Interlock) 및 제어 장치가 있습니다. 샘플 홀더는 모든 유형의 기판에 대한 범용 지원을 제공합니다. 옥스포드 플라즈말랩 100 (OXFORD Plasmalab 100) 은 또한 저온 애싱, 유전체 에치 백, 전통적인 산소 또는 산화제 기반 공격적인 재싱을 포함한 광범위한 애싱 기술을 제공합니다. 또한 기계는 측면 벽 수동과 질소를 수행 할 수도 있습니다. 공구 (toolchain) 에는 저에너지 이온 폭격 (LEIB) 도구가 포함되어 있어 공정 중에 형성 될 수있는 입자와 잔해를 제거합니다. ETCH/ASH 프로세스는 질량 분석기 또는 광학 간섭계로 현장 내에서 모니터링 될 수 있습니다. 또한 통합 원격 진단 도구 (Integrated Remote Diagnosis Tool) 를 사용하여 모델 매개변수를 빠르게 조정할 수 있습니다. 플라즈말랩 100 (Plasmalab 100) 은 샘플 준비, 에칭, 증착 및 처리에 이르기까지 다양한 어플리케이션에 적합한 매우 강력한 장비입니다. 유연성과 고급 (advanced) 기능을 통해 가장 까다로운 어플리케이션에 이상적인 솔루션이 될 수 있습니다.