판매용 중고 OXFORD Plasmalab 100 Plus #293821211

옥스포드 플라즈말랩 100 플러스 (OXFORD Plasmalab 100 Plus) 는 전자 및 마이크로 기술 분야의 다양한 응용 분야에 사용되는 고효율 에처/애셔입니다. 이 장비는 정확하고, 제어되고, 강력한 플라즈마 매개변수를 생성할 수 있는 고급 장비입니다. 이 제품은 정확하고 반복 가능한 프로세스 제어를 위한 혁신적인 설계와 첨단 기술 (Advanced Technologies) 을 갖추고 있습니다. 이 시스템은 반응성 가스 (Reactive Gas) 와 직류 (Direct Current, DC) 전원의 조합을 사용하여 플라즈마 환경을 만들고, 마스킹 또는 복잡한 프로세스 레시피 없이도 에칭 및 애싱 프로세스를 달성 할 수 있습니다. Plasmalab 100 Plus는 성공적인 프로세스 결과를 보장하기 위해 일련의 고급 기술을 채택합니다. 여기에는 에너지 비용을 크게 절감하고 안전한 작업 환경을 제공하는 고성능, 저온 챔버 (low-temperature chamber) 가 포함됩니다. 고급 프로세스 제어 (advanced process control) 소프트웨어를 사용하면 최종 사용자가 프로세스 매개변수를 정의하고 사용자 정의 레시피를 정밀하게 실행할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 맞춤형 프로세스 조건을위한 여러 대피 및 가스 전달 모드 (gas delivery mode) 를 갖추고 있으므로 다수의 응용 프로그램에 적합합니다. 옥스포드 플라즈말랩 100 플러스 (OXFORD Plasmalab 100 Plus) 는 가스 전달, 챔버 대피 및 공정 컨디셔닝과 관련된 여러 가지 기술 기능을 통합하여 고도로 자동화 된 기계로 설계되었습니다. 즉, 완벽한 프로세스 안전을 보장하면서 간단하고 안정적인 운영을 보장합니다. 이 챔버 (Chamber) 는 견본 처리 및 교환을 용이하게하기 위해 손으로 액세스 할 수있는 여러 포트를 갖추고 있으며, 통합 자동 펌프 다운 (Auto-Pump Down) 도구 및 웨이퍼 처리 기능은 설정 및 작동을 더욱 자동화합니다. Plasmalab 100 Plus 자산은 오염 수준이 낮은 다중/다중 부품 장치 생산에 최적화되어 있습니다. 이 제품은 일관성 있고, 반복 가능하며, 제어 가능한 wafer-to-wafer 노출과, 플라즈마 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 제어할 수 있는 기능을 제공합니다. 고급 기능으로, 이 에처/애셔 (etcher/asher) 모델은 고밀도, 매우 정밀한 장치의 생산에 적합하며, 고급 에칭 및 애싱 프로세스를 수행하는 대부분의 실험실에서 사용하기에 적합합니다.