판매용 중고 OXFORD Plasmalab 100+ ICP 380 #293817369
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ID: 293817369
빈티지: 2009
Reactive Ion Etcher (RIE)
Process module
Process chamber inside-kit
Outside & Inside loadlock
Gas supply
PC
Pump
Power transfer
Chiller
2009 vintage.
OXFORD Plasmalab 100 etcher/asher는 다양한 연구 및 산업 응용 분야에 적합한 고급 플라즈마 에칭 시스템입니다. 이것 을 사용 하면 금속, 중합체, "세라믹 '재료 와 같은 여러 가지 기판 들 을 정밀도 가 높게 에치 (etch) 하거나 애셔 (asher) 할 수 있다. Plasmalab 100은 저온, 저전력 마이크로 파 플라즈마 소스를 특징으로하여 다양한 재료 및 응용 프로그램에 적합합니다. OXFORD Plasmalab 100은 또한 조정 가능한 RF (Input Radio Frequency) 전원을 제공하여 사용자가 샘플에 전달 된 전원을 제어 할 수 있습니다. 또한 플라즈마 소스 매개변수 (plasma source parameters) 와 에칭 조건 (etching conditions) 을 포괄적으로 제어하여 사용자는 프로세스를 특정 재료 및 요구 사항에 맞게 최적화할 수 있습니다. 이 고급 에칭 시스템은 고순도 산소, 질소 및 아르곤 가스 소스를 사용하여 일관된 에칭 성능을 보장합니다. Plasmalab 100에는 고급 고정밀 반자동 처리 장치 (semiautomatic handling unit) 가 장착되어 있어 최대 3 개의 기판을 동시에 편리하고 안전하게 처리 할 수 있습니다. 이렇게 하면 더 넓은 영역을 더 짧은 시간 내에, 매우 정밀하게 처리할 수 있습니다. OXFORD Plasmalab 100은 또한 광범위한 공정 가스 (예: 이산화탄소, 산소, 염소 등) 와의 호환성을 보장하여이 에처는 매우 다재다능합니다. Plasmalab 100은 사용자에게 친숙한 고급 GUI (Graphical User Interface) 를 제공하여 모든 프로세스 매개변수를 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 또한 중요한 프로세스 매개 변수의 사후 처리 및 기록을 위해 USB를 통해 데이터 로깅 기능을 제공합니다. 온보드 진단 시스템 (Onboard Diagnostic System) 도 있으며, 이를 통해 사용자는 에칭 및 어싱 (ashing) 작업 중에 컴퓨터의 다양한 성능 매개변수를 추적할 수 있습니다. 다양한 기능과 제어 옵션을 갖춘 옥스포드 플라즈말랩 100 (OXFORD Plasmalab 100) 은 다양한 에칭 어플리케이션을 위한 이상적인 선택입니다.
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