판매용 중고 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824941

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus는 연구 및 생산 환경에서 광범위한 샘플을 정확하고 효율적으로 처리하도록 설계된 고급 플라즈마 에처/애셔 (plasma etcher/asher) 장비입니다. PlasmaLab 80 Plus는 옥스포드 인스트루먼트 (OXFORD INSTRUMENTS) 의 Plasma Processing 기술에 대한 저명한 전문성을 바탕으로 제작되었으며, 최첨단 기능과 혁신적인 디자인 요소를 통합하여 탁월한 성능과 유연성을 제공합니다. OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus (PlasmaLab 80 Plus) 의 중심에는 고밀도 플라즈마 소스가 있으며, 이방성 에칭/애싱 프로파일을 뛰어난 선택성 및 프로세스 제어로 제공 할 수있는 균일하고 안정적인 플라즈마를 생성합니다. 이 시스템은 여러 가스 주입 포트 (gas injection port) 와 정교한 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 를 갖추고 있어 프로세스 매개변수를 조정하여 다른 재료 및 구조에 대한 원하는 에칭 특성을 달성 할 수 있습니다. PlasmaLab 80 Plus (PlasmaLab 80 Plus) 는 대용량 웨이퍼 처리 기능을 갖춘 넓은 프로세스 챔버 (process chamber) 를 갖추고 있어 높은 처리량을 제공하는 단일 실행에서 여러 샘플을 처리할 수 있습니다. 챔버 (Chamber) 에는 에칭/애싱 사이클 (etching/ashing cycle) 전반에 걸쳐 프로세스 조건을 최적의 수준으로 유지하기 위해 고급 온도 제어 및 압력 조절 시스템 (Pressure Regulation System) 이 장착되어 샘플 표면에서 재생성 가능한 결과와 뛰어난 균일성을 보장합니다. OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus 의 주요 장점 중 하나는 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능입니다. 이 기계에는 광학 방출 분광학 (OES), 질량 분석법, 레이저 간섭법 (Laser interferometry) 을 포함한 종합적인 인시 투 진단 도구 (in-situ diagnostic tools) 가 장착되어 있으며, 처리 중 플라즈마 매개변수와 가스 화학을 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 조건을 즉시 최적화할 수 있고, 조정하여 원하는 에칭 (etching) 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 PlasmaLab 80 Plus는 OXFORD INSTRUMENTS 직관적인 프로세스 제어 소프트웨어와 완벽하게 통합되어 프로세스 레시피 설정, 프로세스 매개변수 모니터링, 실시간 데이터 분석을 위한 사용자 친화적 인 인터페이스를 제공합니다. 이 소프트웨어는 또한 포괄적인 프로세스 최적화 및 품질 제어를 위한 고급 데이터 로깅 (data logging) 및 분석 툴을 제공합니다. OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus는 플라즈마 에칭/애싱의 고급 기능 외에도 RIE (Reactive Ion Etching), 깊은 실리콘 에칭, 폴리머 제거, 표면 수정 등 다양한 어플리케이션을 위해 쉽게 구성 할 수 있습니다. 이 도구는 CF4, SF6, O2, Ar 및 Cl2와 같은 다양한 공정 가스를 지원하므로 실리콘, 이산화실리콘, 금속, 폴리머 및 화합물 반도체를 포함한 다양한 범위의 물질을 처리하는 데 적합합니다. 전체적으로 PlasmaLab 80 Plus는 다재다능하고 강력한 플라즈마 에처/애셔 (etcher/asher) 자산으로, 까다로운 연구 및 운영 어플리케이션을 위한 탁월한 성능, 유연성 및 제어 기능을 제공합니다. 고급 기능, 직관적인 소프트웨어 인터페이스 및 견고한 설계를 갖춘 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus는 높은 품질의 에칭 결과를 달성하고 반도체 장치 제작, MEMS/NEMS 개발 및 고급 재료 연구의 혁신을 가속화하는 필수 도구입니다.