판매용 중고 OXFORD INSTRUMENTS Opal #293759975
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ID: 293759975
웨이퍼 크기: 4"
빈티지: 2015
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) system, 4"
Mass Flow Controller 1: H2 50 SCCM
Mass Flow Controller 2: NH3 100 SCCM
Mass Flow Controller 3: N2 100 SCCM
Mass Flow Controller 4: O2 100 SCCM
Mass Flow Controller 5: Ar 100 SCCM
Substrate holder: 240 mm resistance-heated (up to 400°C)
Remote Plasma source: 300 W Capacity at 13.56 MHz (RF generator and automatic matching unit)
Metal precursors delivery: (2) Bubblers and (2) vapor drawns
Gas lines: Non-toxic gas lines (3 lines) and toxic gas lines (2 lines) with individual Mass Flow Controller (MFC)
Water delivery kit
Ozone generator
Vacuum gauges: 1000mT CM gauge and Penning
Pumping pipe work: 40 mm (heating kit)
Materials tested: Al2O3 films only with Ar, O2, TMA
TMA Precursor
Silicon wafer
PC
Operating system: Windows 7 Pro
2015 vintage.
옥스포드 인스트루먼트 오팔 (OXFORD INSTRUMENTS Opal) 은 반도체, MEMS 및 나노 기술 산업의 광범위한 어플리케이션을위한 고급 처리 기능을 제공하도록 설계된 최첨단 플라즈마 에처/애셔 장비입니다. 이 혁신적인 시스템은 최첨단 기술과 정밀 제어 (precision control) 를 결합하여 다양한 재료의 매우 정확하고 균일한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 을 달성하여 연구 개발 실험실, 생산 환경에 없어서는 안될 도구입니다. 오팔 (Opal) 장치는 고밀도 플라즈마 소스를 사용하여 화학적 (chemical) 과 물리적 (physical) 공정의 조합을 통해 기질에서 물질을 효과적으로 제거하는 에너지 성 플라즈마를 생성합니다. 이 플라즈마 소스는 RF (Advanced Radio Frequency) 플라즈마 기술로 구동되며, 이는 밀도, 온도, 이온 에너지와 같은 플라즈마 매개변수를 정확하게 튜닝하여 다른 재료에서 에칭 및 애싱 성능을 최적화합니다. 옥스포드 인스트루먼트 오팔 (OXFORD INSTRUMENTS Opal) 의 주요 기능 중 하나는 고급 프로세스 제어 기능으로, 사용자는 주요 프로세스 매개변수를 실시간으로 정의하고 모니터링할 수 있습니다. 이 머신에는 다양한 프로세스 레시피 (recipe) 에 액세스할 수 있는 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 가 장착되어 있으며, 특정 요구 사항에 맞게 프로세스 매개변수를 쉽게 사용자 정의할 수 있습니다. 이러한 제어 수준을 통해 사용자는 높은 프로세스 반복성 (repeatability) 과 신뢰성 (안정성) 을 달성하여 배치 후 일관된 결과 배치를 보장할 수 있습니다. 또한 오팔 (Opal) 도구는 실리콘, 유리, III-V 재료, 폴리머 등을 포함한 다양한 기판 크기와 유형을 처리 할 수있는 높은 수준의 유연성을 제공합니다. 에셋은 다양한 웨이퍼 크기와 모양을 수용하는 다양한 웨이퍼 척 (Wafer Chuck) 설계를 갖추고 있으며, 단일 웨이퍼 (Single Wafer) 및 배치 처리 모드를 모두 처리하여 다양한 애플리케이션의 요구를 충족시킬 수 있습니다. 에칭 기능 측면에서 옥스포드 인스트루먼트 오팔 (OXFORD INSTRUMENTS Opal) 모델은 광범위한 재료에서 높은 에치 레이트와 선택성을 달성하는 데 뛰어나며, 패턴 전송, 재료 제거, 장치 제작과 같은 응용 분야에 적합합니다. 이 장비는 종횡비가 높은 이방성 에치 프로파일 (anisotropic etch profile) 을 생산할 수 있으며, 정밀도와 충실도가 높은 복잡한 미세 구조를 구성 할 수 있습니다. 또한, 오팔 (Opal) 시스템은 기질에서 유기 오염 물질 및 포토 esist 잔기를 제거하기위한 고급 ashing 기능을 갖추고 있습니다. 이 장치의 고밀도 플라즈마 소스 (high-density plasma source) 는 유기 물질과 휘발성 화합물을 효과적으로 분해하여 기본 기판에 손상되지 않고 깨끗하고 잔기가 없는 표면을 남깁니다. 전반적으로 옥스포드 인스트루먼트 오팔 (OXFORD INSTRUMENTS Opal) 은 다양한 나노 기술 응용 프로그램에 대한 탁월한 성능, 정밀 제어 및 프로세스 유연성을 제공하는 최첨단 플라즈마 에처/애셔 머신입니다. 첨단 기술과 혁신적인 설계를 갖춘 오팔 (Opal) 도구는 반도체 (semiconductor) 와 마이크로패브라이션 (microfabrication) 공정에서 고품질의 안정적인 처리 결과를 얻으려는 연구자와 제조업체에게 강력한 도구입니다.
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