판매용 중고 OXFORD 80 #9140533

OXFORD 80은 뛰어난 정밀도와 제어를 갖춘 다단계 고속 에처/애셔입니다. 옥스포드 인스트루먼트 (OXFORD Instruments) 가 제조 한 완전한 장비로 생산 및 연구 환경에서 반도체 웨이퍼를 건조 에칭 및 재싱하도록 설계되었습니다. 이 시스템의 설계와 특징은 고급 박막 에칭 (Thin Film Etching) 및 애싱 (Ashing) 응용 프로그램에 이상적인 선택이며, 가변 압력 및 터보 펌프가 제어 된 에칭 프로세스를 보장합니다. 첨단 설계를 통해 화학적 사용량을 최소한으로 제한할 수 있으며, 이는 비용 (cost) 과 환경 영향 (environmental impact) 에 모두 유익합니다. 80 개에는 3 개의 공정 챔버 (에치 챔버, 에치 챔버 포커스 및 애셔 챔버) 가 있으며, 각각 개별 가스 및 압력 제어가 있습니다. 에치 챔버 (etch chamber) 에는 통합 압력 제어 밸브 (pressure control valve) 와 압력 게이지 (pressure gauge) 가 장착되어 있어 상수 및 펄스 압력 프로세스와 저압 감지 시 트리거되는 자동 안전 컷 오프 (safety cut-off) 장치를 모두 허용합니다. 에치 챔버 포커스 (etch chamber focus) 는 또한 통합 압력 제어를 제공하여, 섬세한 구조를 가져올 때 낮은 처리 압력과 향상된 제어를 허용합니다. 애셔 챔버 (asher chamber) 에는 다양한 화학 물질을 사용할 때 뛰어난 제어를 위해 터보 펌프 (turbo pump) 와 가변 압력 밸브 (variable pressure valve) 가 장착되어 있습니다. 옥스포드 80 (OXFORD 80) 은 공정 화학 측면에서 매우 호환성이 높으며, 광범위한 재료를 에치 (etch) 하고 재 (ash) 할 수 있습니다. 정밀도 및 공정 제어 (process control) 는 정확한 반복성을 가능하게하며, 분리 가능한 가스 공급 라인 (gas supply line) 과 회전 가능한 배기 날개는 다양한 에칭 화학 물질을 쉽게 구성할 수 있습니다. 이 기계는 내구성이 매우 뛰어나며, 다양한 기능으로 인해 생산이 오래 지속될 수 있습니다 (영문). 간편한 디지털 컨트롤 디스플레이 (Digital Control Display) 를 통해 가동 중지 시간을 최소화하며 프로세스에 대한 상세한 개요를 제공하는, 사용자 친화적입니다. 요약하면, 80 개는 반도체 웨이퍼의 드라이 에칭 및 재싱에 적합한 선택입니다. 즉, 정밀도, 내구성, 제어 기능을 통해 운영 및 연구 환경에 완벽하게 적합하며, 사용 편이성과 호환성을 통해 다운타임을 최소화하고, 운영 효율성을 극대화할 수 있습니다.