판매용 중고 NSC ES 371 #9144811

NSC ES 371은 반도체 제작에 사용하도록 설계된 etcher/asher 장비입니다. 플라스마 에칭 (plasma etching) 기술을 활용하여 다양한 기판에서 빠르고 정확하게 고정밀 패턴을 만듭니다. 이 시스템은 평면과 3D 형식 모두에서 최대 150mm의 기질을 처리하는 진공 전자 빔 (Vacuum electron beam) 을 특징으로합니다. 높은 균일성과 높은 수율을 제공하여 정확한 에칭 결과를 허용합니다. ES 371 은 쉽게 유지 관리 및 업그레이드할 수 있도록 모듈식 설계로 제작되었습니다. RIE (Reactive Ion Etch), ICP (Inductively Coupled Plasma) 및 IBI (Ion Beam Inducement) 를 포함한 다양한 프로세스 방법을 제공합니다. 이러한 구현은 광범위한 온도 및 가스 혼합물에 대한 향상된 프로세스 제어를 제공합니다. 이 장치의 내장 자동 조정 및 피드백 머신 (feedback machine) 은 매우 정밀한 프로세스 튜닝 및 제어를 가능하게 하여 에칭 효율을 극대화합니다. 이 도구의 작동 온도 범위는 유연하며, 표준 작동 온도는 주변 ~ 300 ° C입니다. 이 온도는 다양한 유형의 기판을 수용하도록 조정할 수 있습니다. 또한, NSC ES 371 에서도 다양한 유형의 승화를 수행 할 수 있으며, 이는 여러 에칭 애플리케이션에 이상적인 플랫폼입니다. ES 371 에는 사용자 (user) 와 자산 (asset) 자체를 보호하기 위한 다양한 안전 기능이 장착되어 있습니다. 여기에는 과부하 보호 (overload protection) 기능이 포함되며, 이 기능은 모델을 계속해서 비정상적인 전류 및 전압 수준으로 모니터링합니다. 또한, 이 장비는 장치 내 누출 인스턴스를 감지 할 수있는 물 누수 감지 시스템 (water leak detection system) 으로 설계되어 적시에 수리 및 유지 보수가 가능합니다. 전반적으로 NSC ES 371 은 매우 정확한 애플리케이션의 요구 사항을 충족할 수 있는 다용도 에칭/애싱 시스템입니다. 강력한 안전 (Safety) 기능과 더불어 온도 및 공정 제어 (Process Control) 기능을 통해 반도체 및 관련 산업 어플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.