판매용 중고 NOVELLUS Vector Express #9125995

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ID: 9125995
PECVD Systems, 12" Process: AHM PECVD (Chemical Vapor Deposition) Currently in fab Configuration selections: Silane Oxide-USG (standard) Silicon nitride-SiN (standard) Anti-reflective layer - Pearl Nitrogen free anti-reflective layer -N- free pearl Ashable hardmask Facilities configuration: Bottom (default) Remote interconnect cable lengths: 75ft (Default) Primary user interface location: Right (default) Options: Factory automation communication Interface (AGV or OHT interface) Clean room installation kit High speed spindle Heated process module manometer Leak-check shutoff valve for process module Vector gas box options (3) Additional gas lines per gas box: O2 Gas line CO2 Gas line C2H2 Customer engineering specials and/or additional items: CES 4-Light towers (CESCVD04321A) CES IMM Readiness for 2 FOUP CES gas box special GIB (CESCVD04339A) CES gas box safety exhaust Enclos(CESCVD04357) RF Switch plasma treatment hardware Hermos ID reader 6M loader (CESCVD04325A) 2005 vintage.
노벨 러스 벡터 익스프레스 (NOVELLUS Vector Express) 는 고급 칩 기술에 사용되는 많은 새로운 재료를 포함하여 광범위한 레이어 스택을 처리 할 수있는 고성능 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 장비입니다. 이 시스템은 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 작업을위한 2 개의 독립적 인 프로세스 영역이있는 이중 영역 아키텍처를 기반으로합니다. 듀얼 존 (Dual-Zone) 아키텍처는 단일 유닛을 통해 높은 처리량과 유연성을 제공하며, 광범위한 프로세스 옵션과 기능을 제공합니다. 벡터 익스프레스 (Vector Express) 는 한 번에 최대 4 개의 기판을 처리 할 수 있으며, 이는 대용량 제조를 위한 효율적이고 안정적인 플랫폼을 제공합니다. 기계의 고정밀 공구는 에치 (etch) 및 애셔 (asher) 작업을 정확하게 제어하고 결함을 최소화하고 수율을 향상시킬 수 있습니다. NOVELLUS Vector Express는 고밀도 플라즈마 소스를 특징으로하며, 뛰어난 균일성과 업계 최고의 에치 속도를 제공합니다. 이 도구는 크리티컬 레이아웃 (critical layout) 기능에 대해 매우 낮은 CD 균일성 (unifority) 및 라인 너비 거칠기 (line width roughness) 사양을 달성하여 고밀도 살리시드를 포함한 다양한 프로세스에 사용할 수 있습니다. 이 자산에는 실시간 멀티 존 (multi-zone) 진공 피드백, 향상된 멀티 포인트 (multi-point) 에치 속도 제어 및 통합 비전과 같은 고급 에치 프로세스 제어 기능도 포함됩니다. 이러한 기능을 사용하면 제품 치수 및 구성 요구 사항을 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 벡터 익스프레스 (Vector Express) 는 플라즈마 챔버 (plasma chamber) 의 온도 제어를 철저하게 수행하여 매우 작거나 좁은 임계 치수 (critical dimension) 기능을 가진 온도 민감 재료를 처리 할 수 있습니다. 그 에 더하여, 여러 가지 재료 나 공정 "파라미터 '에 대하여" 플라즈마 챔버' 를 가열 하거나 냉각 시킬 수 있다. NOVELLUS Vector Express는 높은 처리량과 유연성이 필요한 etch 및 asher 어플리케이션에 적합합니다. 다양한 레이어 스택 (layer stack) 및 피쳐 크기를 처리할 수 있으며, 차원 제어와 뛰어난 프로세스 균일성을 제공합니다. 통합된 고급 프로세스 제어 (Advanced Process Control) 및 비전 시스템은 탁월한 제품 품질을 제공하여 Vector Express를 대용량 에치 (Etch) 및 애셔 (Asher) 어플리케이션에 이상적인 선택으로 만듭니다.
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