판매용 중고 NORDSON MARCH AP-1000 #293616503

NORDON MARCH NORDSON MARCH AP-1000은 GaAs, INP, Si 및 기타 III-V 재료를 포함한 다양한 기판에서 높은 처리량과 높은 해상도를 위해 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 저압 반응성 이온 에칭 (reactive ion etching) 프로세스를 사용하여 미세한 선과 레이어를 매우 정확하게 에칭할 수 있습니다. NORDSON MARCH AP 1000은 전자 사이클로트론 공명 에칭, 직류 에칭 및 높은 바이어스 에칭을 포함한 여러 기술을 활용하여 우수한 에치 레이트, 우수한 에치 정밀도 및 에치 모양 제어를 제공합니다. AP-1000 아키텍처에는 중간 밀도 플라즈마 에칭 및 대형 종횡비 에칭 등 2 개의 동시 에치 프로세스를 지원하는 이중 주파수 생성기가 포함되어 있습니다. 고급 웨이퍼 모터 어셈블리는 생산에 뛰어난 균일성과 반복성을 제공합니다. 이 장치에는 안전한 샘플 로딩이 가능한 로드 잠금 장치 (load lock) 와 챔버 청소용 원격 플라즈마 소스 (remote plasma source) 가 장착되어 있습니다. AP 1000의 독점 제어 소프트웨어를 사용하면 최적의 결과를 얻을 수 있는 맞춤형 에칭 매개변수를 사용할 수 있습니다. 이 소프트웨어 인터페이스를 사용하면 전자 레시피 매개변수 (예: 전자 레시피 주파수, 바이어스 전압, 프로세스 압력) 를 프로그래밍하여 최적의 성능을 얻을 수 있습니다. 또한, 기계는 비행 시간 (time-of-flight mass) 분석법 및 광학 방출 분광법 (optical emission spectroscopy) 을 포함한 고급 엔드 포인트 탐지 방법과 프로세스 지속 가능성을 보장하기위한 다른 고급 도구를 갖추고 있습니다. 이 다용도 도구는 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 어플리케이션을 위한 탁월한 성능을 제공합니다. 에칭 된 피쳐는 최대 30: 1의 종횡비와 100nm까지 필름 두께를 가질 수 있습니다. 에치 (etch) 결과의 정확성과 정확성은 시장에서 가장 높은 성능 중 하나로, 다양한 디바이스 크기와 지오메트리 (geometry) 에 걸쳐 뛰어난 결과를 제공합니다. 또한, NORDSON MARCH AP-1000의 높은 처리량 기능을 통해 대용량 생산에 적합합니다.