판매용 중고 NEMST 2002 #9244939

NEMST 2002는 웨이퍼 처리를 위해 특별히 설계된 고급 에처/애셔입니다. 최대 처리 시간 (8s), 효율적이고 안정적인 1단계 프로세스, 생산량 극대화 등의 높은 처리량을 제공합니다. 2002 년은 진정한 1 단계 프로세스에 동기를 부여하여 뛰어난 에칭 속도와 감소 된 입자 결함을 허용합니다. 고급 프로세스 제어 장비 (Advanced Process Control Equipment) 는 일관된 성능을 위해 사전 설정된 매개변수를 사용하며 특정 재료에 대한 프로세스 조건을 조정할 수 있는 유연성을 제공합니다. 히터는 정확한 목표 반복을 위해 고정밀도 위치 시스템 (positioning system) 을 사용하여 정확하고 일관된 온도를 위해 온도를 제어합니다. 메인 챔버는 최대 12 개의 웨이퍼를 수용합니다. 산화로부터 물질을 보호하기 위해, 챔버는 또한 비활성 가스 (일반적으로 질소 또는 아르곤) 를 사용한다. 습식 (wet) 및 건식 에칭 솔루션 (dry etching solutions) 을 포함한 다양한 에칭 제형과 함께 사용할 수 있으며 빠른 에칭을위한 자동 펌핑 장치가 특징입니다. 균일성을 보장하기 위해 비례 밸브 (Proportional Valve) 를 사용하여 가공 가스 흐름을 조정하고 제어할 수 있으며, 임베디드 열전대 (Embedded Thermocouple) 는 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 중요한 온도 모니터링을 보장합니다. NEMST 2002에는 정밀 이미징 및 디지털 이미지 처리가 있습니다. 디지털 이미징 (digital imaging) 기술을 사용하여 이 장치는 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 웨이퍼 프로파일과 엔드포인트 탐지를 정확하게 모니터링할 수 있습니다. 정확한 종점 인식은 초저온 측정기 (Ultra Low Temperature Measuration Machine) 에 의해 더욱 향상되어 전체 웨이퍼 (Wafer) 의 온도를 모니터링하여 균일 한 프로세스 종점을 보장합니다. 2002 년의 독특한 디자인은 고급 엔지니어링 설계를 사용하여 제조됩니다. 구성 요소는 부식에 강하고 화학적으로 저항성이 있으며, 이 장치는 고성능 및 일관성을 위해 정확한 측정으로 설계되었습니다. 고속 프로세스 속도 및 신뢰성과 결합된 경량 설계로 인해 NEMST 2002는 웨이퍼 프로세싱에 이상적인 옵션입니다. 인체 공학은 또한 편의성, 휴대성 및 사용자 친화적 인 운영을 허용합니다.