판매용 중고 MIMASU MSE-3000Mi #293830494

MIMASU MSE-3000Mi는 반도체, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) 및 기타 마이크로 일렉트로닉 산업의 다양한 재료를 정확하고 효율적으로 처리하도록 설계된 고급 etcher/asher 장비입니다. 최첨단 장비는 최첨단 기술을 통합하여 탁월한 정확성과 반복성을 갖춘 고성능 결과를 제공합니다. MSE-3000Mi (MSE-3000Mi) 는 플라즈마 에칭 및 애싱 기술의 조합을 사용하여 미크론 수준의 정밀도로 기판에서 재료 레이어를 선택적으로 제거합니다. 이를 통해 장치는 복잡한 패턴, 에치 피쳐 (etch features) 및 클린 서피스 (clean surfaces) 를 제어 방식으로 생성할 수 있으며, 반도체 장치, MEMS 센서 및 기타 마이크로 일렉트로닉 구성 요소의 제작에 필수적인 도구입니다. MIMASU MSE-3000Mi의 주요 기능 중 하나는 다재다능한 프로세스 기능으로, 사용자가 실리콘, 이산화실리콘, 질화실리콘, 금속, 폴리머 등을 포함한 광범위한 재료를 에치/재로 만들 수 있습니다. 이러한 유연성을 통해 각기 다른 재료 유형과 구조를 처리해야 하는 리서치, 개발, 생산 환경에서 다양한 애플리케이션에 적합한 시스템을 구축할 수 있습니다. 이 장치에는 에칭 및 애싱 프로세스를위한 반응성 플라즈마 환경을 생성하는 고출력 RF 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. "가스 '조성, 압력, 동력 과 같은" 플라즈마' "파라미터 '를 제어 함 으로써" 에칭' 화학 을 조정 하여 원하는 물질 제거 속도, 선택성 및 표면 마무리 를 달성 할 수 있다. 이 수준의 공정 제어 (process control) 는 재현 가능한 결과를 보장하며 특정 재료 조합에 대한 에칭/애싱 (etching/ashing) 조건을 세밀하게 조정할 수 있습니다. MSE-3000Mi (MSE-3000Mi) 는 다양한 공정 가스를 플라즈마 챔버에 도입하는 정교한 가스 전달 기계를 갖추고 있습니다. 이를 통해 사용자는 다양한 에칭/애싱 (etching) 화학 물질을 만들고, 대형 기판에서 프로세스 균일성을 조정하며, 특정 응용 프로그램에 대한 공구 성능을 최적화 할 수 있습니다. 가스 흐름 제어 (Gas Flow Control) 자산은 정확하고 안정적인 흐름 속도를 제공하도록 설계되어 최소 변동성으로 일관된 프로세스 결과를 제공합니다. 이 모델에는 최신 기판 처리 장비 (State-of-the-Art Substrate Handling Equipment) 가 포함되어 있으며, 처리 중 정확한 위치 지정 및 정렬뿐만 아니라 기판 로드 및 언로드를 자동화할 수 있습니다. 이러한 자동화 기능은 워크플로우를 간소화하고, 운영자의 개입을 줄이고, 전반적인 생산성을 향상시킵니다. 또한, 이 시스템에는 실시간 프로세스 데이터 수집, 현장 (in-situ) 엔드포인트 감지, 레시피 관리 기능 등 고급 모니터링 및 제어 기능이 장착되어 있습니다. 안전성과 신뢰성 측면에서 MIMASU MSE-3000Mi (MIMASU MSE-3000Mi) 는 운영 중 사용자와 장비 모두를 보호하기 위해 여러 보호 장치 및 연동으로 설계되었습니다. 진단 툴과 원격 모니터링 기능이 내장되어 있어, 사전 예방 유지 관리 및 문제 해결을 통해 다운타임을 최소화하고 장치 가동 시간을 최적화할 수 있습니다. 이 기계는 또한 장기 내구성 및 성능 안정성을 위해 고품질 소재와 구성 요소로 제작되었습니다. 전반적으로 MSE-3000Mi는 최첨단 에처/애셔 (etcher/asher) 툴로, 정밀도, 다양성 및 신뢰성을 결합하여 고급 마이크로 일렉트로닉스 제조의 까다로운 요구 사항을 충족시킵니다. 고급 프로세스 기능, 사용자 친화적 인 인터페이스, 견고한 구성 기능을 갖춘 MIMASU MSE-3000Mi 는 연구 개발 연구소 (Research and Development Labs), 생산 시설 (Production Facility), 고품질 에칭 및 애싱 (Ashing) 을 실현하기 위한 필수 도구입니다.