판매용 중고 METRON EXCALIBUR 200 #136431

METRON EXCALIBUR 200
ID: 136431
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1991
System, 8", 1991 vintage.
METRON EXCALIBUR 200은 회로 기판 제작 및 기타 정밀 에칭 작업을 위해 설계된 에처/애셔입니다. 이 고성능 시스템은 HF 또는 플라즈마, RIE 및 고급 에칭 기술의 조합을 사용하여 깨끗하고, 정확하고, 반복 가능한 에칭 프로세스를 제공합니다. EXCALIBUR 200은 특허를받은 게이트 드라이브 (gate-drive) 기술을 통해 플라즈마 소스를 월등히 제어하여 더 좋고 일관된 이방성 에칭을 가능하게합니다. 이 에처에는 여러 실행에 걸쳐 최적의 에칭 품질 (etching quality) 과 반복성 (repeatability) 을 보장하는 맞춤형 프로세스가 포함되어 있습니다. 이중 단계 가스 범위는 입자 제어를 극대화하고 산화물 또는 이물질의 축적을 최소화합니다. 전체 RF 로드 감지 (full RF load sensing) 기능을 통해 소스 전원을 정확하게 제어할 수 있으며 프로세스 매개변수를 빠르고 정확하게 변경할 수 있습니다. 이 시스템에는 프로그램 및 모니터 설정을 위한 프로세스 컨트롤러 (process controller to program and monitor settings) 가 포함되어 있어 손쉽게 작동할 수 있도록 손쉽게 터치스크린 인터페이스를 사용할 수 있습니다. 강력한 소프트웨어를 사용하면 복잡한 프로파일 에칭 (etching profile) 과 다양한 설정 및 프로세스에 대한 다중 레시피를 사용할 수 있습니다. METRON EXCALIBUR 200 etcher는 다양한 공급 업체의 다양한 에칭 재료와 호환됩니다. 정밀한 설정과 미세 가스 흐름 제어 (fine gas flow control) 기능은 최소한의 산화물 및 이물질로 엄청나게 반복 가능한 에칭 프로세스를 가능하게합니다. 이렇게 하면 에칭 결과의 정확도와 수익률이 높아지며, 회로 기판이 항상 일관성 있는 고품질 (high-quality) 표준이 되도록 할 수 있습니다. 이 에처 (etcher) 는 또한 다양한 유형의 에칭 프로젝트에 적합한 다양한 프로세스 기능을 자랑합니다. 가변 유량 (variable flow rate) 설정과 조정 가능한 프로세스 설정을 통해 고유한 응용 프로그램에 대해 정확한 성능을 얻을 수 있습니다. 요약하자면, EXCALIBUR 200은 정확하고, 안정적이며, 반복 가능한 에칭 프로세스를 제공하는 잘 만들어진 에처입니다. 다양한 프로세스 설정 (process settings) 과 기능을 통해 수많은 애플리케이션과 고급 게이트 드라이브 (gate-drive) 및 RF 로드 감지 기술로 인해 에칭 결과의 정확성과 신뢰성이 향상됩니다.
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