판매용 중고 MATTSON Aspen #293774634
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
ID: 293774634
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1999
System, 8"
Process: PR Asher
MATTSON Standard dual arm robot
Back chamber: RISSHI EXH-1004 Chiller
Utility box: PCW Distribution
Chamber position:
Back chamber: ICP Asher
Side chamber: ICP Asher
Back and side chamber:
Process: PR Asher
Tube material: Quartz
ADVANCED ENERGYE RFPP 30S RF Generator
TRAZAR AMU-10D-3 RF Matcher
CMLB-11506 Pressure guage
MDV018 Throttle valve
ACX120103 Throttle valve controller
PARTLOW MIC 2000 Temperature controller
Gas box:
Gas-1: O2, 5000 SCCM
Gas-2: O2, 200 SCCM
Gas-3: CF4, 300 SCCM
Gas-4: H2/N2, 3000 SCCM
Transformer: 200 VAC - 100 VAC
1999 vintage.
MATTSON Aspen은 반도체 산업에 사용되는 에치 및 애쉬 장비 제조업체입니다. 1988 년에 설립 된 MATTSON은 반도체 제조 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하는 고급, 신뢰성, 고성능 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 도구를 생산하는 데 큰 명성을 얻었습니다. 아스펜 (Aspen) 계열의 에처 (etcher) 와 애셔 (asher) 는 고급 반도체 장치의 제작에 필수적인 정확하고 균일 한 에칭 및 애싱 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 이러한 공구는 반도체 제조 설비에 사용되어 제조 공정 (manufacturing process) 동안 웨이퍼 (wafer) 표면에서 재료를 선택적으로 제거합니다. MATTSON Aspen 시리즈는 다양한 프로세싱 요구 사항 및 어플리케이션에 맞춘 다양한 에칭 및 애싱 솔루션을 제공합니다. 이 도구는 실리콘, 이산화규소, 금속 필름, 유전체 등 다양한 재료를 처리하는 데 다양성, 정확성 및 효율성으로 유명합니다. Aspen 시리즈의 주요 기능 중 하나는 고급 프로세스 제어 기능입니다. 이러한 도구에는 에치 레이트 (etch rate), 선택성 (selectivity), 균일성 (uniformity), 엔드포인트 감지 (endpoint detection) 와 같은 정확한 프로세스 매개변수를 보장하는 고급 모니터링 및 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 이를 통해 반도체 제조업체는 높은 공정 (high process) 반복성을 달성하고 일관된 장치 성능을 달성하는 데 중요한 요인을 산출할 수 있습니다. MATTSON Aspen 에처 및 애셔는 생산성과 유연성에 중점을 두어 설계되었습니다. 이 도구는 높은 처리량과 빠른 처리 속도를 제공하도록 설계되었으며, 반도체 제조업체들은 엄격한 생산 일정을 충족시키고 웨이퍼 (wafer) 출력을 극대화할 수 있습니다. 또한 모듈식 (modular) 설계를 통해 변화하는 프로세스 요구 사항에 맞게 손쉽게 사용자 정의하고 업그레이드할 수 있습니다. 기술 측면에서, 아스펜 (Aspen) 시리즈는 고급 플라즈마 에칭 및 애싱 기술을 통합하여 정확하고 통제 된 재료 제거를 달성합니다. 이러한 도구는 유도 결합 플라즈마 (ICP), 정전 결합 플라즈마 (CCP) 및 반응성 이온 에칭 (RIE) 을 포함한 다양한 플라즈마 소스를 사용하여 높은 선택성과 균일성을 갖는 물질을 에치 및 재로 사용합니다. MATTSON Aspen 도구는 또한 프로세스 균일성을 최적화하고 에치 앤 애쉬 (etch and ash) 성능을 향상시키는 혁신적인 챔버 디자인과 가스 전달 시스템을 갖추고 있습니다. 이 도구에는 RF 전원 공급 장치, 가스 흐름 컨트롤러, 온도 조절 시스템, 엔드포인트 감지 센서 (endpoint detection sensor) 가 장착되어 있어 정확한 프로세스 제어 및 안정적인 결과를 보장합니다. 또한 Aspen 시리즈는 유지 보수, 교육, 애플리케이션 지원 등 포괄적인 서비스/지원 네트워크에서 지원되므로, 고객의 툴 성능을 최적화하고 운영 효율성을 극대화할 수 있습니다. 숙련된 엔지니어와 기술 전문가로 구성된 MATTSON 팀은 고객과 긴밀히 협력하여 특정 프로세스 문제를 해결하고 툴을 성공적으로 구현합니다 (영문). 전반적으로 MATTSON Aspen 시리즈의 에처 (etcher) 와 애셔 (asher) 는 혁신적이고, 신뢰할 수 있으며, 고성능 툴로, 반도체 제조업체가 고품질 장치 제작을 달성하고 빠르게 발전하는 반도체 산업의 요구를 충족시키는 데 중요한 역할을합니다. 고급 프로세스 제어, 생산성, 기술 혁신에 중점을 둔 Aspen (Aspen) 도구는 반도체 장치 제조의 우수성을 위해 노력하는 반도체 제작 설비에 적합합니다.
아직 리뷰가 없습니다