판매용 중고 MATTSON Aspen II #9401067

MATTSON 아스펜 II (MATTSON Aspen II) 는 반도체 산업 내에서 광범위한 응용 분야에 사용하도록 설계된 최첨단 전기 화학 에칭/애싱 장비입니다. 이 시스템은 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 정확하게 제어하기 위해 고급 전자 공학을 갖추고 있으며, 광역 기판에서 더 평평하고 두꺼운 레이어를 허용합니다. 고급 노즐리스 (Nozzleless) 목욕 장치를 장착하여 스트리핑 프로세스를 정확하고 정확하게 제어하여 예측 가능하고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 또한, 통합 자체 클리닝 머신 (self-cleaning machine) 은 오염 빌드 업을 자동으로 제거하여 공구를 최고 성능으로 유지합니다. 이 자산은 혁신적인 노즐리스 (nozzleless) 솔루션에서 패스트 에칭 (fast-etching) 기능에 이르기까지 안정적이고 효율적입니다. 아스펜 II (Aspen II) 는 최대 온도 475 ° F에서 시간당 최대 50 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며 실리콘, 알루미늄, 텅스텐 및 타이타네이트를 포함한 다양한 재료에 사용할 수 있습니다. 통합 소프트웨어 인터페이스를 사용하면 설정을 최적화하고, 효율적인 작동을 위해 모델 설정을 조정할 수 있습니다. 또한, 고효율 진공 펌프 및 가스 흐름 센서 덕분에 친환경 솔루션을 제공하여 용매 배출량을 제한합니다 (영문). 이는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스가 환경 및 안전 규정을 준수하도록 하는 데 도움이됩니다. 또한 MATTSON Aspen II 의 혁신적인 설계를 통해 유지 보수를 용이하게 하여 모든 내부 구성 요소에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 또한, 장비의 컨트롤러는 소스에서 기판으로의 에칭 (etching) 프로세스를 관리하며, 정확하고 반복 가능한 증착 및 제거 속도를 제공합니다. 또한, 정밀 가스 전달 시스템은 최적화 된 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 위해 정확하고 균일 한 가스 흐름을 보장하여 프로세스 변화를 줄이고 더 나은 결과를 산출하는 데 도움이됩니다. 아스펜 II는 강력하고 신뢰할 수있는 전기 화학 에처/애셔 장치입니다. 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스에 대해 정확하고 반복 가능한 제어를 제공하여 광역 기판에 더 평평하고 두꺼운 레이어를 생성합니다. 또한, 이 기계의 정교한 전자 장치는 안정적이고 효율적인 성능을 보장하는 반면, 통합 자체 청소 도구 (self-cleaning tool) 와 가스 흐름 센서 (gas flow sensor) 는 환경 및 안전 규정을 준수합니다. 또한, 혁신적인 설계는 유지 보수가 쉽고 정밀한 가스 배달을 가능하게하며, 공정 변이가 최소화되면서 우수한 결과를 얻을 수 있습니다.