판매용 중고 MARCH INSTRUMENTS PX-250-09/00 #293587023

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에처/애셔
제조사
MARCH INSTRUMENTS
모델
PX-250-09/00
ID: 293587023
Plasma ashers (2) Gases Maximum panel size: 8".
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MARCH INSTRUMENTS PX-250-09/00은 다양한 반도체 및 재료 연구 응용 분야에 대해 정확하고 균일 한 에칭 및 애싱 프로세스를 제공하도록 설계된 최첨단 플라즈마 에처/애셔입니다. 고도의 고급 툴은 최첨단 (최첨단) 기술을 통합하여 신뢰할 수 있고 반복 가능한 결과를 제공하므로 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 제작 및 연구 실험실을 위한 필수 불가결한 도구입니다. PX-250-09/00 핵심에는 고급 플라즈마 처리 챔버 (Plasma Processing Chamber) 가 있으며, 에칭 및 애싱 프로세스를위한 고도로 통제 된 환경을 만들기 위해 설계되었습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 화학적 부식 및 고온에 강한 고품질 재료로 만들어져 장기적인 신뢰성과 성능을 보장합니다. 이 챔버에는 다양한 안전 (Safety) 기능과 모니터링 시스템 (Monitoring System) 이 장착되어 있어 운영자의 안전성과 프로세스 무결성을 보장합니다. PX-250-09/00의 플라즈마 생성 장비는 RF (radiofrequequency) 플라즈마 기술을 기반으로하며, 이는 밀도, 온도 및 조성과 같은 플라즈마 매개변수의 정확한 제어를 가능하게합니다. 이 기술을 통해 각기 다른 재료 및 장치 구조의 특정 요구 사항에 맞게 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 사용자 정의할 수 있습니다. RF 플라즈마 시스템은 고성능 진공 펌핑 장치 (vacuum pumping unit) 와 결합하여 처리 주기 내내 원하는 프로세스 압력 및 가스 흐름 속도를 유지합니다. PX-250-09/00 의 주요 특징 중 하나는 첨단 가스 전달 머신 (advanced gas delivery machine) 으로, 프로세스 가스와 유속을 정확하게 제어할 수 있습니다. 공구에는 질량 흐름 제어기 (Mass Flow Controller) 와 압력 조절기 (Pressure Regulator) 가 장착되어 가스를 가공실로 정확하게 증착 할 수 있습니다. 따라서 프로세스 일관성 및 반복성이 일관되게 유지되므로 고품질 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 결과가 발생합니다. 또한 PX-250-09/00 에는 정교한 RF 전원 공급 장치가 장착되어 있어 플라즈마 (Plasma) 세대 자산에 적용되는 전원 수준을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 이온 에너지 (ion energy), 밀도 (density) 와 같은 플라즈마 매개변수를 최적화할 수 있습니다. 이는 원하는 에칭 속도와 애싱 속도를 달성하는 데 매우 중요합니다. RF 전원 공급 장치 (power supply) 는 실시간 모니터링 및 제어 모델과 통합되어 운영자가 최적의 성능을 위해 프로세스 매개변수를 지속적으로 조정할 수 있습니다. 고급 처리 기능 외에도, PX-250-09/00 은 사용자 친화적인 인터페이스를 통해 에칭 (etching) 및 어싱 (ashing) 프로세스를 손쉽게 작동하고 모니터링할 수 있습니다. 이 장비에는 모든 프로세스 매개변수 (process parameter) 및 모니터링 도구에 액세스할 수 있는 터치스크린 제어판이 장착되어 있습니다. 이 인터페이스에는 데이터 로깅 (data logging) 및 분석 (analysis) 기능도 포함되어 있어 프로세스 성능을 추적하고 프로세스 레시피를 최적화하여 결과를 향상시킬 수 있습니다. 결론적으로, MARCH INSTRUMENTS PX-250-09/00은 정확하고 균일 한 에칭 및 애싱 프로세스를 위해 최첨단 기술을 제공하는 고도의 플라즈마 에처/애셔입니다. 고급 플라즈마 가공실, RF 플라즈마 시스템, 가스 전달 장치, RF 전원 공급 장치 등을 갖춘 이 툴은 반도체 (semiconductor) 및 재료 연구 응용프로그램의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 사용자 친화적 인터페이스와 고급 모니터링 (Advanced Monitoring) 기능을 통해 다양한 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 제작 및 연구 애플리케이션을 사용할 수 있습니다.
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