판매용 중고 MARCH FLEXTRAK-2MB #9185980
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ID: 9185980
빈티지: 2014
Plasma cleaners
Multiple inline plasma modules
Uniform plasma treatment
Dual lane boat handling
Ideal for pre-flip-chip underfill
(3) Axes symmetrical plasma chamber
(2) Boats/plasma cycles
Chamber maximum volume: 5.5 liters (338 in³)
Plasma processes:
Pre-flip chip underfill
Pre-die attach
Pre-wire bond
Pre-mold steps
Plasma contamination removal & cleaning:
Fluorine & other halogens
Metals & metal oxides
Organic compounds
Electrodes:
Variable electrode configurations:
Power-ground
Ground-power
Power-power
Working area: 305W x 305D mm (12W x 12D in.)
RF Power:
Standard wattage: 600 W
Frequency: 13.56 MHz
Gas control:
Flow volumes: 10, 25, 50, 100, 250 or 500 sccm
(4) MFCs
Control & interface:
Software control: EPC with PC-Based touch screen interface
Remote interface: SMEMA, SECS/GEM
Vacuum pump:
Standard dry pump: 16 cfm
Optional wet pump: 19.5 cfm
Optional purged dry pump: 16 cfm
N2 Purged pump flow: (2) slm
Process gas fitting size & type: 6.35 mm (0.25 in.) OD SWAGELOK Tube
Process gas purity: Lab or electronic grade
Process gas pressure: 0.69 bar (10 psig) min. to 1.03 bar (15 psig) max
Purge gas fitting size & type: 6.35 mm (0.25 in.) OD SWAGELOK Tube
Purge gas purity: Lab or electronic grade N2/CDA
Purge gas pressure: 2 bar (30 psig) min to 6.9 bar (100 psig) max
Pneumatic valves fitting size & type: 6.35 mm (0.25 in.) OD SWAGELOK Tube
Pneumatic gas purity:
CDA
Oil free
Dewpoint: ≤7°C (45°F)
Particulate size: <5μm
Pneumatic gas pressure: 3.45 bar (50 psig) min to 6.89 bar (100 psig) max
Exhaust: 25.4 mm (1 in.) OD Pipe flange
SEMI: E10, S2/S8 (EH&S/Ergonomics)
Gas generators: Nitrogen, hydrogen (requires additional non-optional hardware)
Chiller
Scrubber
Power supply: 220 VAC, 15A, 50/60 Hz, 1-Phase, 12 AWG, 3-Wire
CE Marked
2014 vintage.
MARCH FLEXTRAK-2MB는 반도체 산업 내에서 클린 룸 생산 환경에 사용하도록 설계된 에처/애셔입니다. 5 미크론의 해상도로 반도체 웨이퍼 (wafer) 나 다른 기판에 포토 esist 이미지를 재현할 수있다. 이 최첨단 에처/애셔는 사용 가능한 다른 에칭 솔루션에 비해 다양한 장점을 제공합니다. MARCH FLEXTRAK 2MB의 넓은 작동 영역은 14 인치이며, 광범위한 포토 esist 처리 작업이 가능합니다. 선 모양, 사각형, 원 및 타원을 포함하여 무작위 패턴과 균일 패턴을 모두 지원합니다. 즉, 이미지를 높은 수준의 정확도와 정밀도로 생성할 수 있습니다. FLEXTRAK-2MB (FLEXTRAK-2MB) 에는 고급 프로그래머블 논리 회로가 장착되어 있어 에칭 매개변수를 쉽게 수정할 수 있습니다. 즉, 에칭 프로세스를 지정된 애플리케이션의 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있습니다. 에칭 시간, 해상도, 전원, 기타 매개변수를 조정하면 뛰어난 반복성, 균일성, 화질을 얻을 수 있습니다. FLEXTRAK 2MB는 다양한 안전 기능을 제공합니다. 가동 중 최대 안전성을 보장하기 위해 비상스톱 (Emergency Stop) 기능, 웨이퍼 (Wafer) 취급을위한 자동화된 티저 시스템, 감시 용 후면 조명 안전 유리를 갖추고 있습니다. 에처/애셔 (etcher/asher) 는 또한 섬세한 웨이퍼의 표면이 과열되지 않도록 보호하는 독특한 냉각 시스템을 갖추고 있습니다. MARCH FLEXTRAK-2MB (3 월 FLEXTRAK-2MB) 에는 다양한 응용 프로그램 프로그래밍 옵션이 포함되어 있어 photoresist 에칭 프로세스를 쉽게 자동화할 수 있습니다. 사용자는 다양한 독점 소프트웨어 프로그램을 활용하여 처리량 및 프로세스 품질을 향상시키는 한편, 3 월 FLEXTRAK 2 MB (MARCH FLEXTRAK 2MB) 의 고급 기능을 활용할 수 있습니다. 마지막으로, FLEXTRAK-2MB는 낮은 전력 소비로 설계되어 환경에 미치는 영향을 줄여줍니다. 이는 전력 효율이 최우선 과제인 리서치 (Research) 환경과 프로덕션 (Production) 환경 모두에 적합합니다. 결론적으로, FLEXTRAK 2MB는 고해상도, 정밀도, 반복성이 필요한 모든 에칭 작업에 이상적인 선택입니다. 첨단 기능 과 저전력 소비량 을 지닌 이 "에너지 '는 청정실 생산, 연구, 혹은 기타 산업" 응용프로그램' 에 이상적 인 선택 이다.
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