판매용 중고 LAM RESEARCH Vector Extreme #9315265

LAM RESEARCH Vector Extreme은 반도체 제조 산업의 요구를 충족시키기 위해 설계된 에칭 시스템입니다. 이 에치 (etch) 도구는 매우 구성 가능하며 다양한 재료에 대해 정확한 증착을 제공합니다. 결합 에치, 증착, 질소 플라즈마 기술을 사용하여 최적의 수율을 제공하고 에치 품질을 향상시킵니다. 고급 플라즈마 소스 기술 (Plasma Source Technology) 의 최신 모델로 설계되었으며, 보다 높은 정확도, 비용 절감 및 탁월한 에치 균일성을 제공합니다. 또한 유연하고 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 제공하여 설치 및 작업을 쉽게 수행할 수 있습니다. 벡터 익스트림 (Vector Extreme) 은 각 에치 챔버에 자체 독립 에치 소스를 제공하는 이중 평면 에치 소스로 설계되었습니다. 이것은 반복성과 균일성이 우수한 다양한 재료에서 가장 높은 수준의 에치 (etch) 정확성을 보장합니다. 또한 에치 프로세스를 보완하는 저전력 마그네트론 소스가 장착되어 있습니다. 이를 통해 최적의 etch 프로세스를 유지하면서 전력 소비를 최소화할 수 있습니다. 또한, 특정한 프로세스 요구 사항에 따라 etch 및 deposition 매개변수를 사용자정의할 수 있는 고유한 speed control 모듈이 포함되어 있습니다. LAM RESEARCH Vector Extreme은 etch와 deposition의 조합을 사용하여 원하는 etch 프로파일을 수행합니다. 이것은 최적의 수율, 안정성 및 재생성을 위해 에치 레이트 및 증착 프로파일을 조정하는 독특한 DVES (Dynamic Vacuum Etch Sequence) 기술을 통해 달성됩니다. 또한 NPAZE (Nitrogen Plasma AZE) 프로세스에 의존하여 타의 추종을 불허하는 유연성을 제공하고 질화물 제거 프로세스를 제어합니다. 이 시스템은 또한 더 정확하고 반복 가능한 에칭을 가능하게하는 고급 노즐 보상 기술을 제공합니다. 이것은 고급 노즐 제어로 에치 소스 (etch source) 를 칭찬함으로써 가능해지고, 반복성이 향상되고 수확량이 향상됩니다. 또한 보다 정확하고 정확한 에치 레이트를 허용합니다. 또한 Vector Extreme 은 다른 툴 모듈과의 통합을 통해 비용을 절감하고 프로세스 최적화를 개선할 수 있습니다. 이 제품은 ExpectionTM Technology와 함께 사용할 수 있으며, 이를 통해 Etch 프로세스를 실시간으로 실행할 수 있습니다. 이렇게 하면 운영 시간을 줄이고, 시스템 활용도를 향상시켜, 보다 빠르고 정확한 프로세스를 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 다양한 기능과 이점을 제공하므로 다양한 프로세스/제품 (process/product) 애플리케이션에 적합합니다. 이 제품은 구성 능력이 뛰어나고, 에치 (etch) 기능을 제공하므로 최소한의 자원으로 최적의 수익률과 성능을 얻을 수 있습니다. LAM 리서치 벡터 익스트림 (LAM RESEARCH Vector Extreme) 은 고급 에치 및 증착 기술을 통해 가장 까다로운 정밀 에치 요구사항을 충족할 수 있습니다.