판매용 중고 LAM RESEARCH TM4.1 #9198145

LAM RESEARCH TM 4.1 (LAM RESEARCH TM 4.1) 은 다양한 가스, 압력 및 온도에서 다양한 응용 분야에 고품질의 반복 가능한 프로세스를 제공하도록 설계된 최첨단 에처/애셔입니다. TM 4.1 etcher/asher는 견고하고 고정밀도 높은 디자인과 동적 in-situ 프로세스 제어를 결합하여 다양한 프로세스에서 수율과 처리량을 최대화합니다. TM 4.1 에처/애셔 (etcher/asher) 는 견고하고 안정적인 기계적 구성 요소로 제작되어 유지 보수가 최소화되어 긴 운영 수명을 보장합니다. 또한 강력한 설계로 웨이퍼 런에서 반복 가능한 균일성을 보장합니다. TM 4.1에는 전기 피드 스루 (feedthrough), 스테인리스 스틸 플랜지, 200mm 셀렉터 밸브 및 공정 가스 어셈블리가 포함 된 쿼츠 챔버 (Quartz chamber) 가 포함되어 있으며, 다양한 공정 가스를 수용할 수 있습니다. TM 4.1 의 특수 컨트롤러 시스템은 모든 프로세스 레시피에 대한 반복 가능한 성능을 보장하기 위해 동적 현장 프로세스 제어 (in-situ process control) 및 적응형 (adaptive response) 응답을 제공합니다. 또한, TM 4.1에는 샘플 베이킹을위한 2 차 공정 챔버와 웨이퍼, 마스크, 기타 항목을 손쉽게로드 및 언로드할 수있는 웨이퍼 정렬 및 로드 포트가 포함되어 있습니다. 또한 TM 4.1은 자동 비상 차단 밸브, 비활성 가스 저장 시스템, 활성 챔버 제거 시스템 (Active Chamber Purging System) 과의 통합 기능과 같은 고급 안전 기능을 제공합니다. TM 4.1은 에칭 및 애싱, 저항 스트립, 박막 증착, 더 두꺼운 필름 증착, 웨이퍼 디버링 등 다양한 응용 분야에서 사용하도록 설계되었습니다. 요약하면, LAM RESEARCH TM 4.1 etcher/asher는 사용자 정의 프로세스에 대한 고급 레이저 에칭 프로세스 레시피 및 동적 in-situ 프로세스 제어를 제공하는 강력하고 고정밀 시스템입니다. 견고한 기계적, 전기적 설계, 다용도 프로세스 가스, 고급 안전 (Safety) 기능을 통해 일관된 성능과 반복성을 보장합니다. TM 4.1 에처/애셔 (etcher/asher) 의 기능을 효과적이고 효율적인 웨이퍼 처리 서비스와 결합하여 제조업체는 웨이퍼 처리 응용 프로그램을 최대한 활용할 수 있습니다.