판매용 중고 LAM RESEARCH TCP 9600 SE #9205199
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판매
ID: 9205199
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1995
Etcher, 8"
Chiller: 650 x 550 x 1120
Dry pumps: 650 x 1280 x 1300
Remote power module: 700 x 640 x 1850
On-board AC Dist
Type: Circuit breaker
(2) On-Board RF generators:
Onboard: SML-1250PBC (Sunsay)
Onboard: SML-1000DSQ (Sunsay)
Main process module (PM1): 9600
Wafer clamp
Electrode gap: Fixed gap
TCP Coil: 8”
Turbo pump: BOC EDWARDS
Turbo control: BOC EDWARDS (STP1000L)
Gate valve: VAT 64 (Heated)
Heat exchanger / Chiller: TAITEC CH-800B
Gas line Gas
1 BC13
2 C12
3 N2
4 SF6
5 Ar
6 O2
7 CF4
8 O2
Dry pumps:
EBARA A70W-N
EBARA A80W
EBARA AA40W
EBARA A70W
1995 vintage.
LAM RESEARCH TCP 9600 SE는 반도체 생산 응용 분야를위한 최첨단 에처이자 애셔입니다. 이 제품은 다른 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스와는 별도로 효율적인 통합 설계를 제공합니다. LAM RESEARCH TCP 9600SE는 고출력, 고주파 RF 플라즈마를 사용하여 반도체 웨이퍼 표면에서 원치 않는 물질을 빠르게 에칭하고 회수합니다. 이 장치는 고급 플라즈마 소스 (plasma source), 정밀 전극 설계 (precision electrode design) 및 멀티 챔버 (multi-chamber) 작동을 사용하여 어려운 응용 프로그램에서도 반복 가능하고 안정적인 성능을 제공합니다. TCP 9600 SE의 최대 애싱/에칭 속도는 시간당 최대 60 웨이퍼입니다. 빠른 주기 시간, 높은 처리량 덕분에 TCP 9600SE는 반도체 생산량이 가장 높습니다. 모듈식 (modular) 시스템 구성을 통해 추가 구성 요소와 디바이스를 유연하게 통합할 수 있습니다. 따라서 사용자는 디바이스를 특정 운영 요구 사항에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. LAM RESEARCH TCP 9600 SE는 사용자가 일관된 결과를 얻을 수 있도록 광범위한 프로세스 매개 변수를 제공합니다. 이런 식으로, 제조업체는 매우 반복 가능하고 신뢰할 수있는 뛰어난 품질의 웨이퍼 생산을 기대할 수 있습니다. 사용자는 각기 다른 깊이와 다른 에칭 속도 (etching rate) 로 장치를 에치 (etch) 및 애쉬 (ash) 하도록 구성할 수 있으며, 특정 웨이퍼 및 레이어에 맞게 프로세스를 맞춤형으로 구성할 수 있습니다. 이 모든 기능은 공간 대 성능 비율이 높은 컴팩트한 디자인으로 뒷받침됩니다. LAM RESEARCH TCP 9600SE는 대부분의 공간 크리티컬 어플리케이션을 위한 완벽한 선택입니다. 저압 플라즈마 소스 (Plasma Source) 와 내장 방사선 보호 기능 덕분에 작동이 안전합니다. 따라서 유지 보수 시간이 단축되고 근로자의 안전성이 향상됩니다. TCP 9600 SE는 고급 기능, 인상적인 에칭 및 애싱 성능, 빠른 사이클링 시간, 수율 극대화에 깊은 인상을 받았습니다. 정확하고, 반복 가능하며, 신뢰성이 높은 LAM RESEARCH etcher 및 asher는 복잡한 반도체 생산 응용 분야에 완벽한 선택입니다.
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