판매용 중고 LAM RESEARCH / SEZ RST 100 #293818881

LAM RESEARCH/SEZ RST 100은 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고도의 다목적 플라즈마 에처 및 애셔 도구입니다. 이 도구는 집적 회로, MEMS 장치 및 기타 마이크로 일렉트로닉스 응용 프로그램의 제작에 사용됩니다. SEZ RST 100은 SEZ Corporation에서 LAM RESEARCH Semiconductor Equipment Zurich GmbH와 협력하여 표면 준비 및 플라즈마 처리 기술을 전문으로합니다. LAM RESEARCH RST 100에는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 정확하게 제어 할 수있는 최첨단 기술이 장착되어 있습니다. 고급 기능으로 인해 포토레시스트 스트리핑 (photoresist stripping), 하강 (desumming), 서피스 클리닝 (surface cleaning), 재료 에칭 (material etching) 등 다양한 응용 프로그램에 적합합니다. 이 도구를 사용하면 다양한 기판에서 높은 웨이퍼 처리량 (wafer throughput) 과 균일 한 프로세스 결과를 얻을 수 있습니다. RST 100의 주요 특징 중 하나는 플라즈마 소스 (plasma source) 로, 웨이퍼 표면에서 재료를 효율적으로 제거 할 수있는 반응성이 높은 플라즈마 환경을 생성합니다. "플라즈마 '원 은 여러 가지" 에칭' 과 "애싱 '요구 조건 을 충족 시킬 수 있는 여러 가지" 플라즈마' 화학 물질 을 생산 할 수 있다. 이러한 유연성을 통해 사용자는 프로세스에서 특정 소재 및 디바이스 요구 사항을 충족하도록 조정할 수 있습니다. LAM RESEARCH/SEZ RST 100은 또한 에칭 및 애싱 공정을 위해 별도의 챔버를 갖춘 이중 챔버 설계를 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 제어가 향상되고 다른 프로세스 단계 간의 교차 오염을 방지할 수 있습니다. 이 도구에는 최적의 처리 조건을 유지하고 일관된 결과를 얻기 위해 고급 온도 조절 시스템 (Advanced Temperature Control Systems) 이 장착되어 있습니다. 고급 플라즈마 처리 기능 외에도 SEZ RST 100에는 정교한 가스 전달 및 취급 시스템이 장착되어 있습니다. 이러한 시스템을 사용하면 가스 흐름 속도, 압력, 조성을 정확하게 제어할 수 있으며, 특정 응용 프로그램에 대한 프로세스 매개변수를 사용자 정의할 수 있습니다. 또한 고급 엔드포인트 감지 (endpoint detection) 기술을 통해 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. LAM RESEARCH RST 100은 사용자 친화적 인 인터페이스와 직관적 인 소프트웨어 제어 (Software Control) 를 통해 설계되어 쉽게 작동 및 유지 관리할 수 있습니다. 이 도구에는 운영자를 보호하고 장비 손상을 방지하는 포괄적인 안전 (Safety) 기능이 있습니다. 또한 고급 진단 및 모니터링 (monitor) 기능을 제공하여 문제 해결을 촉진하고 전반적인 시스템 안정성을 향상시킵니다. 전반적으로, RST 100은 탁월한 성능, 유연성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 플라즈마 에처 및 애셔 도구입니다. 반도체 제조업체들이 고품질 (High Quality) 처리 결과를 얻고 제작 프로세스의 생산성을 높이고자 하는 최적의 솔루션으로 자리잡았다. 최첨단 기술과 사용자 친화적 설계를 갖춘 LAM RESEARCH/SEZ RST 100은 최신 반도체 제조 환경의 까다로운 요구 사항을 충족하는 강력한 도구입니다.