판매용 중고 LAM RESEARCH Rainbow 4520 XL #293640389

ID: 293640389
웨이퍼 크기: 6"
Etcher, 6" ESC RF Generator and match: 2 MHz / 27 MHz OSAKA HGP TS443 Pump End point detector: Monochromator Orbital gas box Load lock system.
LAM RESEARCH Rainbow 4520 XL은 고급 기술을 사용하여 웨이퍼 (wafer) 와 금속 (metal) 을 포함한 다양한 기판을 에치 및 재로 사용하는 에처/애셔 장비입니다. LAM RESEARCH RAINBOW 4520XL은 고가상도 트렌치, 초심도 리세스 에칭 및 어려운 기판의 고속, 고해상도 에칭을위한 고급 시스템을 제공합니다. 레인보우 4520 XL (Rainbow 4520 XL) 은 일관된 균일성과 선형 크기로 얕은 참호와 깊은 참호를 모두 에치 (etch) 할 수있는 업계 최고의 성능을 제공합니다. 이 장치는 고정밀 플라즈마 소스와 통합되어 생산성을 극대화하고 안정적인 프로세스 결과를 제공하는 고압 터보 제트 가스 (turbojet gas) 전달 머신을 갖추고 있습니다. 4520 XL의 가스 전달 옵션 (gas delivery options) 은 또한 다른 공정 응용을위한 다양한 에치 화학 물질을 허용합니다. 이 도구는 혁신적인 이중 가스 인젝터 디자인을 사용하는 폐쇄 루프 (closed-loop) 자동 슬릿 스캐닝 에셋 (slit-scanning asset) 을 통해 정확한 에칭 및 재 프로세스를 위해 일관된 가스 흐름 제어를 가능하게합니다. 이 모델은 고급 프로세스 제어 알고리즘을 사용하여 최적의 가스 흐름, 가스 압력, etch/ash 매개변수가 지속적으로 충족되도록 합니다. 가스 인젝터 (gas injector) 장비는 더 얇은 층으로 에칭할 때 최적의 프로세스 흐름을 제공하도록 설계되었습니다. RAINBOW 4520XL은 스테인리스 스틸, 알루미늄, 티타늄 및 기타 금속을 포함하여 다양한 기판을 에칭하는 업계 최고의 성능을 제공합니다. 이러한 기판의 고속, 고해상도 에칭 (etching) 은 가장 어려운 형상조차도 달성 할 수 있도록 합니다. 또한 통합 프로세스 모니터링, 장애 감지, 진단, 프로세스 성능 최적화 등 다양한 고급 기능을 제공합니다. 통합된 프로세스 모니터링 장치 (Integrated Process Monitoring Unit) 에는 오류 또는 프로세스 문제 (Process Issue) 를 쉽게 알릴 수 있는 다양한 경고가 포함되어 있으며, 오류 감지/진단 시스템 (Fault-Detection and Diagnosis Machine) 을 통해 최적의 결과를 얻기 위해 해결해야 할 프로세스 문제를 파악할 수 있는 귀중한 피드백 및 프로세스 데이터를 제공할 수 있습니다. 마지막으로, 고급 프로세스 최적화 기능을 사용하면 에치 속도 (etch rate), 웨이퍼 위치 (wafer position) 및 에치/애쉬 (etch/ash) 매개변수를 동적으로 조정하여 최고 수준의 생산성과 프로세스 품질을 얻을 수 있습니다. 요약하자면, LAM RESEARCH Rainbow 4520 XL은 높은 종횡비 트렌치, 초심도 리세스 에칭, 고속, 고해상도 에칭으로 웨이퍼 및 금속에 대한 최첨단 성능 및 프로세스 유연성을 제공하는 에처/애셔 도구입니다. 이 자산은 최고의 수준의 프로세스 품질, 생산성, 프로세스 반복성을 제공하도록 설계되었으며, 또한 고급 프로세스 모니터링, 장애 감지, 진단, 프로세스 최적화 기능을 제공하는 운영자에게 최적의 결과를 제공합니다.
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