판매용 중고 LAM RESEARCH Rainbow 4500B #293774928

LAM RESEARCH Rainbow 4500B는 고급 반도체 처리 응용 프로그램을 위해 설계된 다재다능한 etcher/asher 장비입니다. 이 시스템은 단일 플랫폼에서 플라즈마 에칭 (Plasma Etching) 및 플라즈마 애싱 (Plasma Ashing) 기능을 결합하여 처리량이 높고 프로세스 제어가 뛰어난 다양한 재료를 정확하고 균일하게 에칭할 수 있습니다. 이 장치의 혁신적인 디자인과 고급 기능은 고급 논리 및 메모리 장치, MEMS, III-V 화합물 반도체 등 반도체 업계의 다양한 애플리케이션에 적합합니다. LAM RESEARCH 4500B는 고밀도 플라즈마 소스 (plasma source) 와 고급 가스 전달 머신 (gas delivery machine) 을 갖춘 다단계 공정 챔버 (multi-step process chamber) 를 특징으로합니다. 이 도구에는 플루오린 기반 (fluorine-based) 과 산소 기반 화학 물질 (oxygen-based chemistry) 을 포함한 다양한 공정 기체가 장착되어 있으며, 다양한 재료에서 다양한 에칭 및 애싱 공정이 가능합니다. 또한, 자산은 기판 크기를 최대 300mm까지 처리 할 수 있으므로 고급 반도체 제조 (advanced semiconductor manufacturing) 에 사용되는 웨이퍼 처리에 적합합니다. Rainbow 4500B의 주요 강점 중 하나는 고급 프로세스 제어 기능으로, 가스 흐름 속도 (gas flow rate), RF 전력, 챔버 압력 (chamber pressure) 과 같은 주요 프로세스 매개변수를 정확하게 튜닝할 수 있습니다. 이 수준의 제어를 통해 사용자는 웨이퍼 전체에 걸쳐 매우 균일한 에치 레이트 (etch rate) 와 선택성 비율 (selectivity ratio) 을 달성하여 일관된 장치 성능과 높은 수율을 얻을 수 있습니다. 이 모델에는 현장 (in-situ) 엔드포인트 감지 기술이 적용되어 에치 (etch) 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 엔드포인트 조건을 정확하게 확인할 수 있습니다. 4500B 는 편리한 장비 제어 기능과 손쉬운 레시피 프로그래밍/수정 기능을 제공하는 사용자 친화적 (user-friendly) 소프트웨어 인터페이스로 설계되었습니다. 시스템은 여러 프로세스 레시피를 저장할 수 있으며, 광범위한 재구성 작업 없이 다양한 에칭 (etching) 프로세스와 애싱 (ashing) 프로세스를 신속하게 전환할 수 있습니다. 또한, 이 장치는 고급 데이터 로깅 (advanced data logging) 및 분석 도구 (analysis tools) 를 제공하여 프로세스 매개변수를 추적하고 시간이 지남에 따라 시스템 성능을 모니터링할 수 있습니다. 안전 및 신뢰성 측면에서 LAM RESEARCH Rainbow 4500B 는 고급 안전 연동 (Safety Interlock) 및 모니터링 시스템을 장착하여 운영 중 사용자 및 장비 보호를 보장합니다. 이 도구는 또한 반도체 처리 환경에서 발생하는 고온, 부식 가스 (부식 가스) 및 기타 가혹한 조건을 견딜 수있는 강력한 부품과 재료로 제작되었습니다. 자산 유지 보수 및 서비스는 최적의 성능/수명을 보장하는 데 필수적입니다. 전반적으로 LAM RESEARCH 4500B는 광범위한 반도체 처리 어플리케이션에 대한 탁월한 프로세스 제어, 다용성, 신뢰성을 제공하는 고성능 etcher/asher 모델입니다. 이 장비는 고급 반도체 소자에 대한 정확하고 반복 가능한 에치 (etch) 및 애쉬 (ash) 공정을 달성하려는 첨단 리서치 및 생산 설비에 적합하다.