판매용 중고 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9226088
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ID: 9226088
웨이퍼 크기: 6"
Poly etcher, 6"
Wafer type: Major flat
Clamp
Hardware:
Cassette indexer: Hine indexer 38A
Process kits
Baratron: MILLIPORE 0-10 Torr
RF Rack: ENI OEM-650A
RF Matcher
Helium cool system
(6) MFC Gases:
HE / 500 SCCM / FC-770AC
CL2 / 200 SCCM / FC-780C
HBR / 200 SCCM / FC-780C
CF4 / 200 SCCM / FC-770AC
SF6 / 200 SCCM / FC-770AC
CHF3 / 50 SCCM / FC-770AC
Signal tower.
LAM RESEARCH Rainbow 4420은 반도체 제조에 사용되는 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 얕은 에치에 이르기까지 고정밀 에칭 및 애싱 프로세스에 최적화되어 있습니다. 이 시스템은 Plasma Etching, Reactive Ion Etching/DEB, Metal/Seed Etching 및 Ashing of Photoresist 프로세스에 적합합니다. 수동 프로세스보다 월등한, 균일성 (unifority) 과 단단한 끝점 (tight end point) 을 갖춘 반복 가능한 프로세스 기능을 제공합니다. 이 장치는 고정밀도 수직 소스 (high-precision vertical source) 를 사용하여 중요한 피쳐 크기의 오버캐치 또는 언더컷없이 에치/애쉬 (etch/ash) 프로파일을 생성할 수 있습니다. Rainbow 4420의 다중 파형 생성기는 각 레벨/로트에 대해 여러 파형을 생성 할 수 있습니다. 이를 통해 여러 스트립 실행에 대한 프로세스 제어 및 반복 가능성을 사용할 수 있습니다. LAM RESEARCH Rainbow 4420은 DC, RF 및 펄스 파형을 출력 할 수 있습니다. 또한 쿼츠 싱글 너비 모듈 (Quartz Single Width Module) 이 장착되어 모든 평면 기판에 쿼츠의 삼타임을 제공하므로 웨이퍼 전체에 균일성이 보장됩니다. 또한 1kW High Energy Peak Pulse 및 기타 기능을 사용하여 모든 레벨에서 에치 깊이, 프로파일 및 균일성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 기계에는 가장 정확한 에칭 (etching) 매개변수를 유지하면서 프로세스와 장비 전원을 제어, 최적화하는 RF 전원 모니터링 도구가 포함되어 있습니다. 에셋에는 ElitePA RF Eyebrow 검출기가 장착되어 있어 프로세스 레시피 검증을 자동화할 수 있습니다. 이 모델에는 DC 에너지 (바이어스 또는 플라즈마) 와 오버 etching으로 인한 노 에치 문제를 제거하는 'Wait for Etch' 기능이 장착되어 있습니다. 별도의 '작업 파일 관리자 (Job File Manager)' 와 '로그 파일 관리자 (Log File Manager)' 는 각 로트의 에칭 매개 변수를 유지하므로 모든 에칭 작업에서 중요한 정보를 모두 캡처할 수 있습니다. 이 장비는 표준 하드웨어, 재사용 가능한 하드웨어, 프로세스 인증 소모품을 사용하여 정확성을 극대화하고 비용을 절감합니다. Rainbow 4420은 ISO 9001 인증 IC 제조 프로세스와 호환되며 반도체 산업 표준의 요구 사항을 따릅니다. LAM RESEARCH Rainbow 4420은 고급 프로세스 제어 (process control) 및 사용자 관리 시스템과 함께 사용할 때 뛰어난 제품 수율, 우수한 프로세스 반복 능력, 실행 가능성을 제공합니다. 이 시스템을 사용하면 특정한 요구 사항에 따라 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 쉽게 최적화할 수 있으며, 대용량 생산에 필요한 유연성과 생산성을 제공합니다.
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