판매용 중고 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9184687
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판매
ID: 9184687
Poly etcher, 8"
Install type: Thru-the-wall (TTW)
Status lamp
SECS I interface
Cassette interface: (2) Hine 38F indexers
Electrostatic chuck (ESC)
Endpoint detection: Monochromator 405nm/520nm
Turbo: SEIKO SEIKI STP H200C
RF Match type: LAM
On-board RF Generators: No
RF Generator: ENI OEM-650A
RF Hours: 402056
Remote RF cart: No
ATM Passivation module: No
Plasma LLK (PLL): No
High conductance manifold: No
Gas box:
Remote gas box: No
Orbitally welded GB: Yes
Backside cooling MFC: Unit 1250A
Gases:
#1: N2, 200 sccm, unit 1200A
#2: CHF3, 50 sccm, unit 1200A
#3: N2, 300 sccm, aera
#4: N2, 500 sccm, unit UFC 1660
#5: CF4,150 sccm, unit 1200A
#6: SF6,150 sccm, unit 1200A
#7: He, 1 slm, Unit UFC 1660
#8: O2, 200 sccm, unit UFC 1660
Pumps:
Heated pumping manifolds: No
Pump controller: iQ Series
Entrance / Exit: EDWARDS iQDP-40
Main: EDWARDS iQDP-80
Chillers: (2) SMC HRS018-WN-20-M
On-board AC distribution type: Fused
Power requirements: 208VAC, 3-Phase, 5-Wire
1993 vintage.
LAM RESEARCH Rainbow 4420은 다양한 부식성 응용 프로그램에서 신뢰할 수 있고, 비용 효율적이며, 높은 수율 사진 촬영 프로세스를 위해 설계된 에처/애셔입니다. 이 고성능 장비는 고해상도, 대용량 영역 처리, 최소한의 오염을 최적으로 혼합하여 제공합니다. Rainbow 4420은 최적의 영역 범위를 위해 30cm x 45cm (12 "x 18") 의 처리 영역을 갖추고 있습니다. 부식 방지 스테인리스 스틸 (Stainless Steel) 로 구성되어 있으며 최대 6 개의 공정 욕조를 효율적으로 수용할 수 있으며, 광범위한 응용이 가능합니다. 이 시스템은 사용 가능한 가장 광범위한 재료를 처리 할 수 있으며, 최대 2.5 cm (1 ") 의 서셉터 이동을 수용 할 수있는 통합 서셉터 리프트 장치를 포함하기도합니다. 또한, 고유하게 설계된 폐기물 복구 시스템 (Waste Recovery Systems) 은 환경 영향을 줄이기 위해 모든 에치 잔류 물이 처리 영역에서 안전하게 떨어져 있는지 확인합니다. 작동 측면에서 LAM RESEARCH Rainbow 4420은 효율적이고 안전하며 안정적인 작동을 보장하는 저온 진공 또는 저압 환경에서 작동하도록 특별히 설계되었습니다. 고유한 susceptor lift 및 bellows-sealed window 포트는 기판 로드 및 언로드에 필요한 압력 제어를 제공합니다. 또한, 내장형 입자가 없는 퍼징 시스템과 쉬운 스위치 기술 (switch technology) 이 함께 작동하여 에칭 프로세스에 사용되는 초고순도 가스 스트림을 제어합니다. 또한 Rainbow 4420 은 간편한 제어 및 모니터링을 위해 설계된 대화형 사용자 인터페이스를 제공합니다. 이 시스템은 또한 지속적인 프로세스 최적화를 위해 내장형 지능형 진단을 사용합니다. LAM RESEARCH RAINBOW 4420 etcher/asher는 매우 정밀하고 높은 수율 photolithography 프로세스를 위해 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 솔루션입니다. 고급에칭 (advanced etching) 기술과 효율적인 폐기물 복구 (waste recovery) 시스템의 독특한 조합을 제공하여 환경에 미치는 영향을 줄입니다.
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