판매용 중고 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #293601578
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ID: 293601578
웨이퍼 크기: 8"
Etcher, 8"
HINE 38A Indexer and open cassette
ADVANCED ENERGY RFG 1250 RF Generator
8-Channel gas line
ESC Cathode base.
LAM RESEARCH Rainbow 4420은 고품질의 고정밀 마이크로 구조의 표면을 생산하도록 설계된 고정밀 에처/애셔입니다. 이를 통해 사용자는 종횡비가 높고 종횡비가 뛰어난 밀리미터 길이의 나노 스케일 (nano-scale) 서피스 피쳐를 생성할 수 있습니다. Rainbow 4420은 하나의 챔버에 ALD (dry-etching and atomic layer deposition) 를 결합한 최초의 etcher/asher이며, 나노 스케일 수준에서 고도로 제어 가능한 장치 기능을 제공합니다. 다양한 재료의 정확하고 균일 한 에칭 및 패턴을 가능하게하는 독특하고 안정된 CCP (multi-zone capacitively-coupled plasma) 소스를 특징으로합니다. 사용자는 에치 (etch) 프로세스를 완전히 제어하며 나노 스케일에서 최대 1: 1.5의 종횡비를 달성 할 수 있습니다. 또한, 탁월한 마스크 프리 에칭 기능과 고정밀 기능을 통해 통신 및 메모리 장치, 마이크로 필터레이션, Lab-on-a-chip 배포판 등 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 광범위한 운영 범위는 또한 생명 과학, 광학, 전자, 마이크로 일렉트로닉 시장의 다양한 응용 분야에 적합합니다. 실시간 레시피 전송, 높은 처리량 워크플로우, 통합 분석, 강력한 안전 기능 등 다양한 옵션을 사용할 수 있는 LAM RESEARCH Rainbow 4420은 다양한 기판에서 나노 스케일 (nanoscale) 장치를 에칭 및 패턴화하는 데 이상적인 도구입니다. 즉, 프로세스 성능이 일관되게 유지되고 오버헤드 (overhead) 비용을 제거하여 사용자에게 탁월한 가치를 제공하도록 설계되었습니다. 작동이 쉽고 정교한 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해 에칭 프로세스를 간편하게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. Rainbow 4420 은 엔트리 레벨 리서치 (entry level research) 에서부터 고정밀 (high-precision) 제작에 이르기까지 다양한 고객 요구에 적합한 툴입니다.
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