판매용 중고 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9379095

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45는 하나의 장비에 고급 에칭 및 애싱 프로세스를 결합한 가우시안 애셔/에찬트 도구입니다. 중형 기판을 통해 소규모로 에치 앤 애쉬 (etch and ash) 할 수 있도록 설계되었으며, 정밀도 및 균일성이 뛰어납니다. 이 시스템에는 고급 소스 제어 (Source Control), 글로벌 프로세스 지원, 기타 여러 기능이 장착되어 있습니다. LAMONTRAK Kiyo 45는 조정 가능한 전력, 압력 및 밀도를 제공하는 가우스 플라즈마 소스 (Gaussian plasma source) 를 특징으로하여 균일 한 깊이, 측벽 및 최고 프로파일 에치 및 애싱 작업을 생성합니다. 이 장치는 프로세스 표준화 및 개선 된 기판 수율에 대해 완전히 프로그래밍 할 수 있습니다. LAM RESEARCH Kiyo 45에는 제어 에칭 및 재싱을위한 APC (Automatic Pressure Control) 와 EGFS (Exhaust Gas Flow Structure) 가 장착되어 안전하게 작동합니다. 키요 45 (Kiyo 45) 는 또한 복잡한 형상이있는 기질에서도 반복 가능한 에칭 및 애싱 결과를 보장하는 균일 한 가스 분포를 위해 설계된 반응 챔버를 특징으로합니다. 또한, 기계는 고급 가스 필 (gas fill) 기술과 웨이퍼 매핑 (wafer) 매핑 도구를 사용하여 프로세스 변화를 감지하고 여러 제품에 걸쳐 일관된 글로벌 프로세스를 보장합니다. LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45도 쉽게 유지 관리할 수 있도록 설계되었습니다. 챔버 (Chamber) 에는 빠른 웨이퍼 교환을 용이하게하기 위해 리프트 메커니즘이 장착되어 있으며, 자산 자체에는 빠르고 쉬운 프로세스 매개변수 변경을 위해 터치 스크린 인터페이스 (Touch Screen Interface) 가 있습니다. 이 모델에는 빠른 프로세스 문제 해결, 통합 프로세스 모니터링, 네트워킹 기능 등을 위한 다양한 고급 기능 (예: 검색 제품군) 이 있습니다. 전반적으로 ONTRAK 키요 45 (Kiyo 45) 는 중소 규모 기판에서 완벽하고 균일 한 에칭 및 애싱 프로세스를 제공하도록 설계된 고급 에칭 및 애싱 장비입니다. 다양한 고급 기능을 통해 프로세스 안정성 (Process Stability) 과 반복성 (Repeatability) 을 보장하고 사용이 간편한 인터페이스 (Interface for Process Adjustment and Tracking) 를 제공합니다.